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中国科学院深圳先进技术研究院专利：光刻机调焦调平机构以及光刻机调平机构
中国科学院深圳先进技术研究院 专利 光刻机 调焦调平机构
2023/11/23
中国科学院深圳先进技术研究院专利：光刻机调焦调平机构以及光刻机调平机构
昆山同兴达首台SMEE光刻机顺利搬入仪式圆满结束
昆山同兴达 SMEE光刻机 集成电路
2023/2/3
据同兴达官微消息，2023年2月1日，昆山同兴达首台SMEE光刻机顺利搬入仪式圆满落幕。据悉，此次搬入仪式的SMEE光刻机是昆山首台金凸块封测光刻机，具有较强延展性，可实现与先进制程芯片相似功能，对缩短国内与国外产品代差具有重要意义。
国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”项目通过内部验收（图）
光刻机双工件台 清华大学
2016/2/23
2016年1月29-30日，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”（简称02专项）实施管理办公室在清华大学组织召开了“光刻机双工件台系统样机研发”项目的专项内部验收会。
2012年9月2至8日，科技部中白国际合作项目“高端光刻机偏振照明关键技术联合研究”课题1与课题4的技术研讨会在上海光机所召开，白俄罗斯KBTEM-OMO光学公司、上海光机所、长春光机所、光电研究院与成都光电所的专家及中国长城工业集团有限公司的代表参加了会议。
BKJ100-2B型接触/接近式光刻机
光刻机 半导体工艺 集成电路工艺设备
2009/3/6
成果简介：针对中国集成电路生产线的要求，以“七五”攻关成果半自动光刻机为基础设计开发并能批量生产性能稳定、使用可靠的BKJ100-2B型接触/接近式光刻机，以满足国内3微米工艺线的需要。该成果不仅要求能达到日本CanonHJA-501F光刻机的水平，而且还能提供用户批量的光刻设备。因此，除了在设计中解决有关曝光均匀性、曝光量的重复精度、精密工作台的精密定B位精度以及自动故障诊断等关键技术以外，还必...
1微米分步重复投影光刻机
光刻机 分步重复投 半导体工艺 光刻集成电路设备
2009/3/5
一、成果内容简介、关键技术、技术经济指标：1、成果内容简介：该专题研究成功半导体专用设备分步重复投影光刻机。主要用于中国微电子领域的光刻工艺，用来研究和生产VLSI电路，是发展中国电子工业急需的关键工艺设备。该机的功能在目前是国内最齐全的、含有版库管理系统、可编程掩模光栏、自动调焦调平、可编程调焦、自动光量控制、图形阵列自动优化设计、同轴掩膜自动对准、同轴硅片自动对准(整片、逐场、选场)、硅片自动...
KLA-Tencor 推出可解决二次成像挑战的首款计算光刻机
挑战；计算 光刻机
2008/8/1
KLA-Tencor公司今天推出其领先业界的最新版计算光刻机 PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案，并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战，尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。