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中国科学院金属研究所专利：一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合结构靶材
中国科学院金属研究所 专利 电弧离子镀 沉积 磁性材料涂层 复合结构 靶材
2023/9/25
本实用新型属于薄膜制备领域,具体地说是一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合结构靶材。复合结构靶材为靶壳及磁性材料靶材构成,靶壳紧固于磁性材料靶材外围；其中,靶壳为低饱和蒸气压和低二次电子发射产额的金属靶壳；或者,靶壳为陶瓷相材料层依附于可加工金属环上形成的靶壳,可加工金属环紧固于磁性材料靶材外围,陶瓷相材料层依附于可加工金属环在与磁性材料靶材的靶面平行方向的面上。本实用新型解决了电弧离子镀难于...
中国科学院金属研究所专利：一种电弧离子镀铁磁性复合结构靶材及其应用
中国科学院金属研究所 专利 电弧离子 镀铁 磁性复合结构 靶材
2023/8/29
本发明属于薄膜制备领域,具体地说是一种电弧离子镀铁磁性复合结构靶材及其应用。所述复合结构靶材包括高磁导率的软磁性材料靶壳与铁磁性材料靶材,所述铁磁性材料靶材与软磁性材料靶壳相连。本发明复合结构靶材解决了由于铁磁性靶材表面增加沟槽克服磁屏蔽时,降低了靶材使用寿命,进而本发明复合结构靶材解决了为改变靶面磁力线分布,在沉积系统中附加耦合磁场所带来的设备操作复杂及成本增加问题。
中国科学院金属研究所专利：一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材及应用
弧电流对电弧离子镀CrN硬质涂层组织性能的影响
电弧离子镀 CrN涂层 弧电流 组织结构
2011/8/1
采用电弧离子镀技术在钛合金表面制备CrN涂层,利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)以及透射电镜(TEM)分析了弧电流对涂层组织结构以及力学性能的影响。结果表明,随着弧电流的升高,涂层沉积速率增大,表面熔滴的数量及尺寸增大,表面平整度明显下降。不同弧电流条件下均沉积出CrN单相涂层。弧电流改变了粒子、离子的轰击作用,从而影响到涂层表面的能量状态,CrN涂层的择优生长由(111)变为(200...
采用电弧离子镀技术在Ti60合金表面制备了Ti-48%Al-12%Cr(0.2%Si, 0.1%Y, 原子分数)防护涂层. 利用XRD, SEM和EDS研究了Ti60合金及Ti-Al-Cr(Si, Y)涂层在Na2SO4和75%Na2SO4+25%K2SO4 (质量分数)中800及850℃下的热腐蚀行为. 结果表明, Ti60合金基体在800和850℃的硫酸盐中发生了严重的腐蚀,腐蚀产物发生了明显...
电弧离子镀法制备高硬度Cr-Si-C-N薄膜
电弧离子镀 Cr-Si-C-N薄膜 纳米晶
2009/11/30
采用电弧离子反应沉积技术在SCM415渗碳淬火钢基片上沉积了Cr-Si-C-N薄膜, 三甲基硅烷(TMS)反应气体作为Si和C掺杂源, 通过改变TMS流量实现了薄膜中Si和C含量的调节. 利用XPS, XRD, HRTEM和显微硬度计研究了Cr-Si-C-N薄膜的化学状态、显微组织和显微硬度. Cr-Si-C-N薄膜中的Si和C含量随TMS流量的增加而单调增加. 在TMS流量小于90 mL/min...
脉冲偏压对电弧离子镀CrNx薄膜组织结构与性能的影响
电弧离子镀 脉冲偏压 C r N x 薄膜 组织结构
2009/11/12
利用电弧离子镀技术在 TC 4 基体上制备 C r Nx薄膜, 研究了脉冲偏压 对薄膜的 组织结构和 力学性能的 影响。结果表明, 在一定范围内提高脉冲偏压可以显著减少薄膜表面熔滴的数量及尺 寸, 改 善表面平整 度, 获 得高质量的薄膜; 同时随着脉冲偏压的升高, C r Nx 薄膜由 C r N 单相变为 C r , C r2N 和 C r N 三相组成, 硬度与结合强度的峰值可分别达到 2 ...
不锈钢双极板电弧离子镀Cr1-xNx薄膜改性研究
质子交换膜燃料电池 不锈钢双极板 电弧离子镀
2009/10/15
用电弧离子镀方法在质子交换膜燃料电池(PEMFC)不锈钢双极板表面沉积一系列 Cr1-xNx(x=0.28-0.50)改性薄膜, 对薄膜的成分、相组成以及改性双极板的导电、耐蚀等性能进行了分析测试. 结果表明, 双极板的导电与耐蚀性能因沉积Cr1-xNx薄膜而显著提高, 并且与薄膜的成分和相组成密切相关: 当x值从0.28增加到0.50, 薄膜由Cr+Cr2N转变为Cr2N, 再转变为Cr2N+C...
采用电弧离子镀技术在镍基高温合金DD32上制备了两种不同Cr和Al含量的Ni-Co-Cr-Al-Si-Y涂层, 分析了两种涂层的组织及结构, 对比研究了两种涂层
分别在1000和1100℃时的静态氧化行为和从1000 ℃到室温的循环氧化行为. 结果表明: 退火后两种涂层均由γ'/γ, β-NiAl以及少量α-Cr析出相组成, 但Al含量高的Ni-Co-Cr-Al-Si-Y涂层含更多的β相. 氧化...
离子束辅助轰击对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响
离子束 TiAlN膜层 电弧离子镀
2009/9/10
采用俄罗斯UVN 0.5D2I离子束辅助电弧离子镀沉积设备，在高速钢W18Cr4V基材上沉积TiAlN膜层;利用N离子束对膜层沉积之前的预处理和膜层沉积时的辅助轰击，并用SEM、X射线衍射和力学测试等手段研究了N离子束轰击对膜层表面形貌、相结构、显微硬度影响.结果表明：N离子束的预处理在基材表面形成了一定厚度N的过渡层；N离子束对膜层的辅助轰击，明显地降低了膜层表面“大颗粒”的密度，改善了膜层的表...
钴基合金电弧离子镀NiCrAlY涂层的组织结构和抗氧化性能
电弧离子镀 NiCrAlY涂层 真空热处理 抗氧化性能
2009/8/28
采用电弧离子镀方法在Co基高温合金K640基体上制备NiCrAlY涂层，研究电弧离子镀涂层和真空退火后涂层的形貌、相结构及抗氧化性能。研究结果表明：电弧离子镀NiCrAlY涂层主要由γ-Ni，γ′-AlNi3和β-NiAl等相组成，衍射峰明显宽化，元素分布均匀；真空退火后涂层组织更致密，衍射峰尖锐，涂层主要由γ-Ni，γ′ -AlNi3，β-NiAl，α-Cr以及极少量的Cr23C6组成，元素分布...
利用分离靶电弧离子镀工艺在高速钢基体上制备TiNbN多元硬质薄膜，利用TEMP-6型强流脉冲离子束（HIPIB）设备，采用含C/H离子、加速电压300 kV、脉冲宽度70 ns、束流密度60 A/cm2的强流脉冲离子束对所制备的薄膜进行辐照处理，研究辐照前后膜层的摩擦磨损性能的变化。实验结果表明：HIPIB辐照以后，薄膜的表面熔化，摩擦系数降低，晶粒细化，膜层的硬度由HK3444提高到HK3820...