搜索结果: 1-15 共查到“光学工程 激光损伤”相关记录28条 . 查询时间(0.145 秒)
2024年3月22日，中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光元件技术与工程部研究团队，在利用不同激光损伤测试协议评估532nm薄膜偏振片的抗激光损伤性能和损伤机制方面取得新进展。相关成果以“Nanosecond laser damage of 532 nm thin film polarizers evaluated by different testing protocols”为...
上海光机所在激光助力高抗紫外激光损伤熔石英元件制造方面取得进展（图）
紫外激光 熔石英元件 耦合
2023/8/8
2023年8月8日，中国科学院上海光学精密机械研究所精密光学制造与检测中心魏朝阳研究员团队基于CO2激光的缺陷表征与去除过程，实现了高抗紫外激光损伤熔石英元件制造。相关研究成果发表于Light: Advanced Manufacturing。
上海光机所在混合物薄膜材料的皮秒激光损伤性能研究方面取得进展（图）
混合物薄膜材料 皮秒激光
2022/3/28
2022年3月28日，中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室与高功率激光物理联合实验室开展合作研究，在HfO2-Al2O3混合物单层膜的皮秒激光损伤性能研究方面取得进展。相应研究成果发表于《应用表面科学》（Applied Surface science）。
脉冲压缩光栅是高能拍瓦激光系统的核心光学元件，其损伤问题是制约皮秒高能拍瓦激光系统极限输出能力的关键瓶颈因素。研究团队分析了大口径脉冲压缩光栅制造的特点，并综合考虑了脉冲压缩光栅的应用状态，利用大样本采样方法解析光栅制造过程，准确描述了脉冲压缩光栅在应用中可能面临的关键小概率缺陷损伤问题。研究发现，脉冲压缩光栅的纳秒激光损伤主要表现为节瘤缺陷损伤、纳米吸收中心损伤以及伴随缺陷损伤的等离子体烧蚀区。...
2022年2月7日，中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室系统研究了影响大口径脉冲压缩光栅在应用中面临的小概率缺陷损伤问题，厘清了诱导脉冲压缩光栅纳秒激光损伤的关键瓶颈因素及机理。相关成果发表在Optical Materials Express（《光学材料快讯》）, 上。
近日，上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室在基频激光辐照下双离子溅射薄膜的激光损伤研究取得进展，结合损伤破坏机制和过程分析对溅射致密薄膜出现的高低能量下不同的破坏进行了较好的解释。相关研究成果已发表在Scientific Reports期刊上。
双离子束溅射薄膜具有优良的力学性能和环境稳定性，适合用于空间激光系统。薄膜的激光损伤是激光系统中的瓶颈问题，溅射空间薄膜的激光损伤关系到整个航天器任务的发射和运行的稳定性。溅射薄膜激光损伤的物理过程研究对寻找薄膜性能提升方法至关重要，目前的激光损伤模型无法针对溅射薄膜大尺寸膜层剥离现象进行很好的解释。
科技成果转化公示——一种光学薄膜和光电器件表面激光损伤阈值测量装置
光学薄膜 科技成果转化 能量探测器
2020/11/12
本发明提供了一种光学薄膜和光电器件表面激光损伤阈值测量装置，其包括激光电源、激光器、光束整形器、偏振能量调节器、聚焦透镜、分光镜、成像光学系统、图像传感器、光电探测器、能量探测器、图像采集卡、光电处理电路、能量采集处理电路、能量调节控制器、样品台(15)、运动控制卡和上位机；采用偏振能量调节方式来调节辐照在被测样品上表面激光脉冲能量，调节方便；采用能量均匀分布的激光光斑辐照来诱导被测样品表面损伤，...
2019年5月19日至22日，由美国国际光学工程学会（SPIE）、中科院上海光机所（SIOM）、中国物理学会（CPS）、上海市物理学会（SPS）联合主办的环太激光损伤暨薄膜物理与应用国际会议（International conference on Pacific Rim Laser Damage & Thin Film Physics and Applications，简称SPIE-PLD/TFP...
磁流变抛光对熔石英激光损伤特性的影响
磁流变抛光 熔石英 光学元件 氢氟酸(HF)动态刻蚀 激光损伤阈值
2016/11/17
为进一步提升熔石英元件的激光损伤阈值，研究了氢氟酸（HF）动态酸刻蚀条件下磁流变抛光工艺对熔石英元件激光损伤特性的影响规律。首先，采用不同工艺制备熔石英元件，测量它们的表面粗糙度。然后，采用飞行时间-二次离子质谱法（OF-SIMS）检测磁流变加工前后熔石英元件中金属杂质元素的含量和深度；采用1-on-1方法测试激光损伤阈值，观测损伤形貌，并对损伤坑的形态进行统计。最后，分析了磁流变抛光工艺提升熔石...
针对355 nm激光作用于熔石英光学元件后其损伤阈值容易变差的问题，提出使用1.7%纯HF溶液和0.4% HF与1.2% NH4F混合的BOE溶液对样品进行处理来提高它们的激光诱导损伤阈值（LIDT）。在相同的条件下将熔石英光学元件浸没到上述两种不同的刻蚀溶液中进行处理，通过测量刻蚀过程中元件重量变化来计算刻蚀速率，利用Zygo轮廓仪测试元件表面粗糙度，然后对355 nm激光照射下熔石英元件的损伤...
利用电子束蒸发技术制备了氧化铪薄膜，并分别用氧气氛下退火和激光预处理两种后处理方法对样品进行了处理。介绍了两种后处理工艺和相关的设备，测试分析了样品的透过率、吸收和抗激光损伤阈值。对比了两种后处理方法对降低吸收和提高激光损伤阈值的效果，讨论了它们的作用原理。实验结果表明，激光预处理能有效降低样品的吸收值，提高样品的抗激光损伤阈值。采用一步法（50%初始损伤阈值）预处理后，三倍频氧化铪薄膜的损伤阈值...
中国科学院上海光学精密机械研究所成功主办第四届“环太激光损伤──高功率激光光学材料”专题研讨会（图）
中国科学院上海光学精密机械研究所 第四届 环太激光损伤──高功率激光光学材料 专题研讨会
2015/5/20
2015年5月17日至20日，由中国科学院上海光学精密机械研究所和国际光学工程协会（SPIE）联合主办的第四届“环太激光损伤──高功率激光光学材料”专题研讨会（2015 Pacifi-Rim Laser Damage-Optical Materials for High Power Lasers）在上海嘉定成功举行。会议主席由中国科学院上海光学精密机械研究所党委书记邵建达研究员，日本大阪大学Tak...
偏振分光膜中节瘤的激光损伤特性
激光损伤 偏振分光膜 节瘤缺陷 人工节瘤
2014/12/12
研究了1 064 nm HfO2/SiO2偏振分光膜中节瘤的损伤特性。为了研究偏振分光膜中节瘤缺陷种子源粒径大小与损伤阈值之间的关系,在熔石英基板上植入了尺寸和密度可控的单分散性的SiO2小球,并采用电子束蒸发技术在熔石英基板上制备了1 064 nm HfO2/SiO2偏振分光膜。为了便于损伤测试,节瘤缺陷密度控制在20~40 mm2左右,并采取旋涂的措施防止了SiO2小球团聚的现象。为了获得人工...
一年一度的SPIE激光损伤国际会议在美国Boulder举办，至今已有40余年的历史，代表着光学材料激光损伤研究领域的国际最高水平。该年会自2008年开始组织全球性的光学薄膜激光损伤阈值水平竞赛，薄膜类型包括0度1064 nm高反膜、0度786 nm高反膜、0度351 nm增透膜和0度193 nm增透膜。2012年和2013年的竞赛主题是布鲁斯特角基频偏振膜，对膜层的光谱性能要求为：p分量偏振光透射...