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中国科学院高能物理研究所专利：一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法
针对多层复合结构的频率选择表面（frequency selective surface, FSS）的应用场合，使用了一种混合算法。该算法结合了矩量法和谱方法的优点，主要通过计算缝隙单元上的感应电压来获得FSS的透波率。对于任意结构的FSS，都可以采用这种思路高效率地得到计算结果。仿真分析了几种复合结构的FSS，并通过实验验证了算法的有效性。最后，用该算法证明了多层介质对于FSS的重要性。
多层复合结构应变硅材料的生长和特性
多层复合结构 应变硅材料 半导体材料
2009/2/24
应用减压化学气相沉积技术,在弛豫Si0.7Ge0.3层/组分渐变Si1-xGex层/Si衬底这一多层复合结构的基础上制作了应变硅材料,其中组分渐变Si1-xGex层Ge的摩尔分数x从O线性增加到0.2.对该复合结构的性能进行了表征,由原子力显微镜和Raman光谱测试结果计算出应变硅层的表面粗糙度和应变度分别为4.12 nm和1.2%,材料中的位错密度为4×104cm-2.经受了高热开销过程后,应变...