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化学气相沉积 (Chemical vapor deposition，CVD)是利用前驱反应物气体在高温高压下，通过原子、分子间的化学反应，在预置衬底上生成固态薄膜的技术，是无机功能材料制备的重要技术之一。然而，传统 CVD技术依赖于对反应体系的整体加热激活化学反应，从而实现薄膜沉积，能量利用率低效导致反应过程缓慢 (薄膜沉积速率为10 ~100 nm/min)，高温生长条件会降低薄膜/基底界面热机...

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