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据科技部网站消息:物理气相沉积(PVD)是半导体芯片和TFT-LCD生产过程中最关键的工艺之一,PVD用溅射金属靶材是半导体芯片生产及TFT-LCD制备加工过程中最重要的原材料之一,溅射金属靶材中用量最大的是超高纯铝和超高纯净铝合金靶材。研发具有自主知识产权的大尺寸超高纯铝靶材的制造关键技术,开发出满足半导体行业及TFT-LCD产业需求的超高纯铝靶材产品,对于我国相关产业的发展具有重要意义。
摘要 通过改变生长参数,采用热丝化学气相沉积(HFCVD)法制备了从10μm到90nm四种晶粒尺寸的金刚石膜,并制作了三明治结构的光电导探测器。采用原子力显微镜和拉曼光谱仪研究了薄膜的结构和表面形貌:表面粗糙度从423nm变化到15nm;晶粒越大,金刚石膜的质量越好。I-V特性测试结果表明随着晶粒尺寸的减小,金刚石膜的电阻率从1011Ω·cm减小到106Ω·cm。在5.9 keV的55Fe X射线...
摘要 研究了316L纤维的长度、直径与含量对HA-ZrO2(CaO)/316L纤维生物复合材料的力学性能的影响规律. 结果表明: 纤维直径为40μm的复合材料力学性能优于纤维直径为50μm的复合材料; 纤维长度为0.8~1.2mm的复合材料力学性能优于纤维长度为2~3mm的复合材料; 随着纤维体积分数增大, 纤维之间相互接触而导致在复合材料中形成的微孔增多, 并成为微裂纹源, 导致材料力学性能下降...

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