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2019年10月17-18日，第三届国际先进光刻技术研讨会(IWAPS 2019)在南京召开。研讨会历时两天，由集成电路产业技术创新联盟和中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、南京市浦口高新区和南京市浦口区科学技术局承办，南京诚芯集成电路技术研究院协办，IEEE南京分会提供技术支持。包括到会的媒体人员，会议约400余人参会。本次研讨汇集了来自北美、欧洲、以色列、日本、韩国、印度、中国大陆及台湾...

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