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近日，上海光源软X射线干涉光刻线站（BL08U1B）用户研发成果“极紫外光刻胶”入选中国科协2020年“科创中国”先导技术榜单，成为先进材料领域10项先导技术之一。研发团队开发出具有国际先进水平和完全自主知识产权的极紫外光刻胶，实现了从材料设计到中试生产的全流程，填补了国内技术空白。标志着我国在高端光刻胶领域已跻身世界先进行列，为国内半导体产业安全、国家经济安全和信息安全提供有力保障。
