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钨/铜界面是聚变堆偏滤器的重要连接界面，在高热流密度和强中子辐照下会成为氢同位素渗透滞留的高速通道和捕获陷阱。本文利用第一性原理方法研究了钨/铜界面处氢原子与点缺陷的相互作用，考察了氢原子的滞留行为和空位在界面处的形成行为，分析了氢原子的优先占据位置及氢原子与空位的作用机理。结果表明：在钨/铜界面中，氢原子稳定存在于钨/铜界面中间及铜晶格中；对于空位，界面附近的铜空位不稳定，会自发移动到钨/铜界面...
