搜索结果: 106-113 共查到“电子科学与技术 统计”相关记录113条 . 查询时间(0.358 秒)
变像管相机中空间电荷效应的统计动力学分析
高速变像管相机 空间电荷效应 Boltzmann积分微分方程
2009/8/24
从Boltzmann积分微分方程出发推出了保守势场中电子数密度按势能的分布规律,即Boltzmann统计分布。以此为基础，从统计动力学的角度详细分析了变像管相机中超短电子脉冲内部的空间电荷效应，通过求解Poisson方程得出了表征空间电荷效应的两个特征参量：空间电荷密度分布函数和速度分布函数，并对其按电位的动态变化规律进行了定性讨论。结果表明，限制变像管中的低电位区域和其中光电子脉冲从高电位向低电...
基于数据驱动和统计扩散的树冠提取方法
图像处理 树冠提取 数据驱动的生灭
2009/4/29
遥感图像在森林管理中有重要的作用，随着数据量的增加和分辨率的提高，从图像中提取树冠参数成为需要和可能。该文根据树冠的特征，使用标记点过程对树冠建模，采用可逆马尔科夫链蒙特卡罗算法(MCMC)配合模拟退火算法提取树冠的参数，提出新数据项以使其更好适应图像；提出数据驱动的生灭核，同时提出使用随机扩散方法代替非跳转转移核加快算法收敛速度并简化了该方法的实现。最后通过对遥感图像的实验验证了该方法的有效性。...
集成电路统计优化技术的研究
集成电路 统计优化
2008/10/30
该成果是在理论研究的基础上，实现了以集成电路工艺控制参数和器件尺寸为设计变量，以集成电路合格率为设计目的的统计化系统（YOSIC）。系统包括：版图电路提取器、工艺/器件模拟器、电路模拟器、统计优化软件包和工艺/器件调谐器等几个主要模块。可用于集成电路设计开发的各个领域：如IC器件模型参数及统计分布规律的获取、IC制造工艺设计、IC单元电路的统计优化设计、IC生产工艺控制、工艺诊断、最坏条件设计和教...
提出了一种新的表征亚阈值电路镜电路中CMOS工艺波动的方法. 与现有的统计学方法相比，该方法在理论上和计算复杂度上相对简洁，但对亚阈值电流镜电路中的CMOS工艺波动做出了准确的评估. 此模型利用统计学的概念将依赖于IC工艺的物理参数抽象为具有确定均值和方差的随机变量，并进一步将所有随机因素累加为离散鞅. 在SMIC 0.18μm CMOS 1P6M 混合信号工艺下，利用工作在100pA~1μA...
强湍流效应下激光大气传输短曝光光斑统计分析
光传输 湍流大气 曝碎光斑 爱里斑
2008/4/29
利用数值模拟的方法，对强湍流效应下激光大气传输焦平面短曝光光斑的统计特性进行了初步分析，并与实验结果进行了对比。结果表明：在强湍流效应下，焦平面短曝光光斑破碎成一系列的小光斑，这些破碎光斑的等效半径与爱里斑半径近似相等；接收器中心置于光轴轴心处，当接收孔径等于爱里斑直径时，接收的均值光强最大。
介绍一种自放大自发辐射自由电子激光（SASE FEL）的自发辐射和电子束噪声的数学描述，运用修正的一维非定态程序，对SASE FEL 起振问题及光场统计特性进行了数值模拟，分析了自发辐射谱的发展过程及一定频带宽度内光场随机特性的统计规律，数值模拟结果与理论结果符合较好。
PMD统计模型的改进
偏振模色散 数值模型 迭代
2007/12/7
对于PMD的研究,分段模型是较优的选择.原始模型经过数学推导, 可转化为迭代模型.转化后的模型物理意义明晰,在直观上便于看出PMD随光纤分段增加的累积过程,具有较强的移植性.理论分析指明了数值方法产生误差的缘由，给出了实用数值计算的迭代模式，对于PMD补偿具有指导意义，同时使计算变得简洁.