搜索结果: 1-14 共查到“核科学技术 去污”相关记录14条 . 查询时间(0.133 秒)
一体化工具去污装置的设计与应用
一体化 工具 去污 复用
2021/6/20
低温去污剂对模拟U(Ⅵ)污染的去污特性研究
聚乙烯醇缩丁醛 低温 去污 可剥离膜
2021/4/29
采用硫酸和磷酸的混合酸作为去污剂,以530 ℃钠中浸泡3 700 h的304和316不锈钢为试样,进行了快堆设备去污模拟试验,并在去污试验后对试样进行去污深度、微观形貌以及力学性能等分析。结果表明:304和316不锈钢最大去污深度分别可达约10 μm和4 μm;材料去污深度随去污温度、时间、去污剂流速的增加而增大;相同条件下,304不锈钢的去污深度大于316不锈钢。去污后,材料均保持较好的延伸率,...
燃料元件铀沾污所致冷却剂中裂变产物活度浓度研究
冷却剂 燃料元件 裂变产物
2014/9/15
通过分析压水反应堆一回路冷却剂中裂变产物核素的活度浓度,能够有效判断堆内燃料元件的破损情况;但元件包壳外表面沾污的铀经堆内中子照射后生成的裂变产物也会进入冷却剂中,从而给判断冷却剂中裂变产物的来源带来困难,因此燃料元件包壳沾污铀所致的冷却剂中的裂变产物核素成为判断元件包壳是否破损的干扰因素之一;通过给出包壳沾污铀所致的裂变产物核素活度浓度的计算方法,对其影响因素和计算误差进行了分析,可为燃料元件破...
反应堆一回路系统循环去污配方实验研究
退役 去污 缓蚀剂
2010/8/30
针对反应堆一回路堆外系统进行了清洗去污配方研究。分别进行了主剂、侵蚀剂及缓蚀剂选择实验,确定了清洗主剂为10% HNO3、侵蚀剂为KMnO4、缓蚀剂为苯并三唑。以清洗时间、转速、侵蚀剂及缓蚀剂添加4种因素进行了正交试验,得到了1Cr18Ni9Ti在该清洗剂体系下的主要影响因素、最优清洗配方和工艺条件。
压水堆核电站上充泵的去污实践及其理论探讨
充泵 压水堆核电站
2009/3/24
本文论述了某核电站在换料大修期间完成的上充泵去污工作,针对马氏体不锈钢在去污过程中出现的特殊现象,分析探讨了马氏体不锈钢的化学特性。通过总结上充泵去污的经验成果,对未来马氏体不锈钢的去污工作提出了建议。
Purex流程共去污工艺计算机稳态模拟
去污工艺 Purex
2009/3/2
在萃取串级理论基础上,建立了模拟“分液漏斗法”串级萃取实验操作的数学模型,编写了HNO3、U和Pu体系的稳态模拟程序。利用文献报道的实验数据和计算数据,对该程序进行了验证。结果表明,该程序模拟萃取器逐渐达到稳态的过程中,各组分的浓度剖面与实验结果符合良好。在此基础上,利用该程序对1A工艺进行了安全分析和工艺寻优计算。结果表明,1AS流量变化对U、Pu收率的影响不大,1AX和1AF流量变化对U、P...
铀表面粘污的红外和拉曼光谱分析
铀试件 红外光谱 拉曼光谱
2009/2/7
机加工后的铀试件,表面不可避免地残留下影响铀试件腐蚀行为的冷却液粘污。本工作研究利用红外光谱和拉曼光谱对铀试件表面的粘污情况进行表征。实验研究初步结果显示,红外光谱、拉曼光谱能够定性地评估铀试件表面的粘污物和粘污程度,且观察到残余在铀表面的机加工冷却液分布不均匀。
乙羟肟酸消除Zr界面污物的研究
乙羟肟酸 酰胺荚醚 Zr(Ⅳ)
2009/1/12
研究在模拟高放废液中加入乙羟肟酸(AHA)以消除酰胺荚醚(TBOPDA)萃取模拟高放废液过程中的界面污物。萃取实验结果表明:在模拟高放废液中加入AHA可显著降低Zr(Ⅳ)在两相中的分配比,此时,Pu(Ⅳ)的分配比仍足够大,它不影响TBOPDA对Pu(Ⅳ)的回收。反萃实验表明:在所研究的反萃条件下,1级反萃即可有效反萃TBOPDA有机相中的Zr(Ⅳ);3次错流反萃可有效反萃TBOPDA有机相中的P...
以低碳异羟肟酸作络合剂改善钌的去污
钌 水溶性 低碳异羟肟酸
2009/1/12
在低酸条件下加入水溶性的低碳异羟肟酸保温预处理,可使30%TBP-煤油萃取RuNO硝酸根络合物的分配系数D_(Ru)降低一个数量级。料液预处理后调至2.0mol/1 HNO_3介质,放置40h,其D_(Ru)值无明显变化。大量铀的存在对预处理效果无影响。
用计数管测量空气中的气体放射性沾污
气体放射性沾污 计数管
2009/1/8
本文讨论了用放在待测气体中的计数管直接测量空气中所含β放射性气体比度的方法。并给出了此种装置之灵敏度与各参数间关系的简单的近似公式、有关的曲线、图表及设计所需的数据。 计算结果表明,对硬β射线源,这种装置的灵敏度可以很容易地达到或超过电离室的灵敏度。
乏燃料后处理萃取过程中的界面污物
乏燃料 后处理
2008/12/15
在乏燃料后处理萃取工艺工程中 ,萃取剂和溶剂的辐解以及料液中不溶性固体微粒的存在导致产生界面污物。界面污物严重影响萃取柱的正常操作。文章就有关界面污物的研究状况进行概要评述。目前 ,普遍认为 ,在Purex流程萃取过程中 ,尤其是在一循环中 ,界面污物的产生与Zr和TBP降解产物HDBP、H2 MBP、H3 PO4 形成的沉淀以及料液中存在的不溶性RuO2 、Pd等微粒的表面化学现象有关。沉淀是...
电磁分离器中的同位素溅射沾污
电磁分离器
2008/10/31
文章讨论了电磁分离器中离子束轰击接收器面板、口袋及结构部件产生的溅射,研究了这种溅射引起的同位素沾污,提出了需要采取的措施。
狭小空间表面放射性污染去污
狭小空间
2008/10/29
根据核工业退役设备表面放射性污染去污需要,针对狭小空间的特点,研制了1套去污工具和化学去污剂Dec-α,利用物理和化学相结合的去污方法,使1次去污率达到85%左右