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本发明涉及质谱电离源中真空紫外灯的在线或离线清洗，是一种紫外灯灯头透镜外表面清洗装置，包括密封的电离腔，电离腔的侧壁上设置有真空紫外灯安装口，电离腔的侧壁上设有一贯穿电离腔壁面的导气管，导气管的出口端位于真空紫外灯下方，导气管入口端与臭氧发生器的气体出口相连，臭氧发生器气体入口与氧气源连接。本发明中利用臭氧发生器产生的含有高浓度臭氧气体在一定气压和温度下对紫外灯透镜上吸附的有机物氧化反应，实现对灯...
中国科学院大连化学物理研究所专利：一种紫外灯灯头透镜外表面清洗装置
中国科学院大连化学物理研究所 专利 紫外灯 灯头透镜 外表面 清洗装置
2024/1/29
本发明涉及质谱电离源中真空紫外灯的在线或离线清洗，是一种紫外灯灯头透镜外表面清洗装置，包括密封的电离腔，电离腔的侧壁上设置有真空紫外灯安装口，电离腔的侧壁上设有一贯穿电离腔壁面的导气管，导气管的出口端位于真空紫外灯下方，导气管入口端与臭氧发生器的气体出口相连，臭氧发生器气体入口与氧气源连接。本发明中利用臭氧发生器产生的含有高浓度臭氧气体在一定气压和温度下对紫外灯透镜上吸附的有机物氧化反应，实现对灯...
中国科学院大连化学物理研究所专利：一种光学基片镀膜前的清洗方法
中国科学院大连化学物理研究所 专利 光学基片 镀膜前 清洗
2024/1/22
本发明涉及一种光学基片镀膜前的清洗方法。该操作方法采用正庚烷代替乙醚和乙醇按一定比例配成混合清洗液，滴在光学清洗无尘布上对光学石英玻璃进行擦拭清洗。在高亮度光学检测灯的照射下，观察基片的去污情况，从而达到基片清洁的目的。用此方法清洗镀膜前的光学基片可以提高光学薄膜的附着力和增强薄膜的抗激光损伤阈值，提高光学薄膜的使用寿命。