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氢离子辐照诱导的钨表面周期性刻蚀研究等离子体钨氢离子辐照氢泡刻蚀 2021/12/23

采用扫描电镜（ScanningElectronMicroscope，SEM）、导电原子力显微镜（ConductiveAtomicForceMicroscope，CAFM）、能谱仪（EnergyDispersiveSpectrometer，EDS）和纳米压痕等表征技术和方法，综合分析了130eV氢（H）离子辐照诱导的多晶钨（W）材料的辐照损伤行为。研究表明：H离子辐照剂量从1.0×1024ions?...