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搜索结果: 1-10 共查到核科学技术 离子注入相关记录10条 . 查询时间(0.219 秒)
本工作研究低能N+离子注入中温α淀粉酶产生菌BF7658的诱变方法。经不同注量的N+离子注入实验后,得出N+离子最佳注量为1×1016 cm-2,并筛选获得1株耐酸性α淀粉酶产量较高的枯草芽孢杆菌突变株。该突变株所产α淀粉酶的酶活可达207 U/mL,遗传稳定性较好。
经完全退火处理的Ti-Al-Zr合金表面注入不同剂量的N离子,并在pH值为10的溶液中进行电化学腐蚀试验。结果表明,N离子注入后,试样表面首先形成具有四方结构的ε-Ti2N,随着离子注入剂量的增加,四方结构的ε-Ti2N逐渐向立方结构的σ-TiN转变,X射线光电子能谱的分析结果也证实了这一变化过程;N离子注入能明显改善Ti-Al-Zr合金表面的耐腐蚀性能,且在注入8×10^16 ion/cm^2...
为获得中性蛋白酶高产菌株,选用低能(30keV)N+离子束以不同剂量注入中性蛋白酶,产生菌枯草芽孢杆菌(Bacillussubtilis)AS1.398,研究其诱变效应,菌株存活率曲线为典型的“马鞍型”剂量效应曲线,且在马鞍形区域内具有较高的正突变率。经多次筛选,获得一株稳定高产突变株ZC-12,突变株产中性蛋白酶活力为初始菌株的1.84倍。通过对PCR扩增诱变前后两菌株编码中性蛋白酶基因的D...
研究了碳在铀表面注入、梯度注入、反冲注入离子束辅助沉积改性工艺。采用俄歇电子谱仪(AES)分析碳改性层沿深度方向的成分分布;采用X射线衍射仪(XRD)分析改性层的结构;通过动电位极化曲线、极限湿热腐蚀实验,比较腐蚀前后样品表面的形貌变化,对改性层抗腐蚀机理进行探索。研究结果表明:几种改性工艺均实现了碳离子在铀表面的注入或沉积,碳离子注入可在铀的表面形成碳化铀;45keV能量辅助轰击沉积碳、50...
用150keV的As离子大剂量注入到铌膜上,在一定条件下制备了超导膜。其超导转变温度为 6.6 K。注入层的厚度约 67 nm,用迭代扣普法求得了此层中的砷浓度分布,得到了Nb与As原子浓度的比值为2.2。此样品是富铌的Nb(As)超导膜,其超导转变温度比理想的Ti_3P结构的Nb_3As(Tc=0.3 K)高 6.3 K。
利用Al2 O3晶体的热释光特征比较了镍离子注入与α辐射在晶体中的作用。进一步证明了α辐射对Al2 Ο3晶体的作用以离子取代为主。
利用离子注入技术分别用单能量和多能量叠加注入方式在铀表面注入碳形成表面改性层,并对改性层的形貌、注入元素的分布和相结构分别进行扫描电镜(SEM)、俄歇电子能谱(AES)及表面相结构衍射谱(XRD)分析,利用电化学极化法测试注入样品的抗腐蚀性能。结果表明:离子注入碳能够提高铀表面抗腐蚀的能力。
本文叙述了离子注入PIN电流型探测器的制备,并对一些问题进行了讨论。探测器指标:在300伏反向偏压下漏电流一般小于10微安,好的可小于3微安;工作状态下线性输出电流大于2安;φ20毫米的样品上升时间小于8毫微秒,φ8样品上升时间可达3毫微秒。在使用中得到了较好的结果。
半导体的离子注入,就是使杂质元素(如硼,磷,砷)的离子,在加速电压的作用下达到5~100千电子伏的能量,对半导体衬底进行轰击,以得到所需要的杂质浓度的方法。 离子束在半导体领域内的应用早已发现,而且一直在进行研究。1948年首先报道了用离子束使半导体电导类型转变的实验;1952年发表了用各种不同的气体离子轰击硅表面可
研究了能量为64keV、注量1×1017cm-2的Ni离子注入金红石TiO2单晶制备的植入金属纳米晶的微观结构和磁学性能。注入层的结构和磁学性能采用透射电子显微分析(TEM)和超导量子干涉磁强计(SQUID)进行分析。结果表明,金红石单晶中有尺寸为3~18nm的金属Ni纳米晶生成,注入区域基体明显非晶化。10K温度下金属Ni纳米晶的矫顽力约为16.8kA·m-1,比Ni块材的矫顽力大。样品的零场冷...

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