搜索结果: 1-1 共查到“光学工程 激光光刻技术”相关记录1条 . 查询时间(0.099 秒)
亚10 nm的结构在集成电路、光子芯片、微纳传感、光电芯片、纳米器件等技术领域有着巨大的应用需求(图1),这对微纳加工的效率和精度提出了许多新的挑战。激光直写作为一种高性价比的光刻技术,可利用连续或脉冲激光在非真空的条件下实现无掩模快速刻写,大大降低了器件制造成本,是一种有竞争力的加工技术。然而,长期以来激光直写技术由于衍射极限以及邻近效应的限制,很难做到纳米尺度的超高精度加工。近期,中国科学院苏...