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【浙江工业大学姚建华教授团队】激光辅助化学气相沉积研究进展（图）
激光辅助 化学气相沉积 LCVD技术 共振光解
2022/4/2
化学气相沉积 (Chemical vapor deposition，CVD)是利用前驱反应物气体在高温高压下，通过原子、分子间的化学反应，在预置衬底上生成固态薄膜的技术，是无机功能材料制备的重要技术之一。然而，传统 CVD技术依赖于对反应体系的整体加热激活化学反应，从而实现薄膜沉积，能量利用率低效导致反应过程缓慢 (薄膜沉积速率为10 ~100 nm/min)，高温生长条件会降低薄膜/基底界面热机...
研究了化学气相沉积多晶膜的宏观性能（颜色和透光性）与微观性能（结晶质量、相纯度和氢杂质含量）之间的关系,喇曼谱与金刚石膜中氢杂质含量（红外光谱测得）的关联性.给出了根据颜色和透明度来区分样本膜质量的实验依据,颜色较深的膜的结晶质量差、相纯度低、氢杂质含量高,1 332 cm－1金刚石特征喇曼峰强度低,半峰宽大.由于多晶膜生长不均匀性、多晶以及粗糙度的影响,生长面的微喇曼光谱随采样点变化会产生较大的...