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中国科学院金属研究所专利：可调速调幅的旋转磁场控制的电弧离子镀弧源
中国科学院金属研究所 专利 调速调幅 旋转磁场 电弧离子镀 弧源
2023/12/25
本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种可调速调幅的旋转磁场控制 的电弧离子镀弧源。在靶材周围空间设有旋转磁场发生装置,旋转磁场发生装置 为采用相差一定均匀角度、相互连接在一起的几个磁极均匀布在同一圆周上,磁 极数量为4n或者3n,n≥1,形成一个整体的电磁回路骨架,励磁线圈套在磁极 上或者嵌在相邻磁极之间的槽隙内,采用相位差90°的两相或者相位差120°的 三相励磁顺序供电,在磁极包围的空间内...