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光电成象材料的性能改进将直接影响到成象器件及系统制备及应用。就成象器件而言大致有两类,一类以光刻技术或扫描探测等技术为基础；另一类为直接利用材料本身的光电特性进行成象。在第二类成象器件中对材料至少应有两个要求,也即在材料满足光电敏感特性的同时,还必须保证有足够高的分辨率。非晶硅等半导体光电材料由于本身较好的光敏性而在空间光调制器中得到了较好的应用。但为了更好地提高分辨率，必须有效地提高材料的横向电...