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搜索结果:
1-5
共查到
“
半导体技术 分子
”
相关记录5条 . 查询时间(0.561 秒)
中国科学院微电子研究所专利:一种
分子
尺度界面SiO2的形成和控制方法
中国科学院微电子研究所
专利
分子尺度界面 SiO2
2023/7/10
中国科学院微电子研究所专利:一种
分子
尺度界面SiO2的形成和控制方法
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“高迁移率
分子
半导体材料的设计合成与晶体管器件的基础研究”科研成果荣获2021年度北京市科学技术一等奖(图)
高迁移率 分子半导体材料 设计合成 晶体管器件
2023/3/6
根据近日北京市科委公布的2021年度北京市科学技术奖公报,化学所牵头完成的项目“高迁移率
分子
半导体材料的设计合成与晶体管器件的基础研究(完成人:刘云圻、于贵、郭云龙等)”获得2021年度北京市科学技术奖自然科学一等奖。
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郭雪峰课题组:多功能单
分子
场效应晶体管研制方面获得重要进展(图)
多功能单分子场
晶体管研制
超低功耗微电子器件
集成电路芯片
卟啉单分子场效应
2022/3/28
芯片是信息技术产业的核心,是支撑社会经济发展和保障国家安全的关键之一。在传统CMOS微缩可能面临终结的关键时刻,以新材料、新结构和新原理为主要特征的超低功耗微电子器件技术,有望提供集成电路发展的新途径,是突破当前集成电路芯片领域存在的瓶颈的有效途径。其中,利用单个
分子
构建光电子元器件得到了广泛的关注。单
分子
器件可以将器件尺寸缩小至单
分子
水平,可以作为存储器、二极管、场效应晶体管及开关等,其中单
分子
...
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郭雪峰课题组:CMOS兼容的单
分子
场效应晶体管研究获得重要进展(图)
CMOS
单分子场效应
晶体管
硅基电子器件
互补式金氧半导体
2022/3/21
纵观过去的半个多世纪,信息工业的快速发展依赖于硅基电子器件的不断微型集成。当7nm和5nm节点的芯片已经商用,3nm甚至1nm制程已经接近极限的情况下,摩尔定律似乎已经开始走向终点。因此,发展新机制、新材料和新器件已经成为半导体行业的下一个转折点。其中,利用单个
分子
构建电子电路元器件得到了广泛的关注,是电子器件微小化发展的终极目标。首先,单
分子
器件可以使得器件的导电沟道真正达到1nm左右水平,有望...
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郭雪峰课题组和刘志荣课题组合作:揭示单
分子
水平上的对称性破缺效应构建多功能单
分子
器件(图)
对称性破缺效应
多功能单分子器件
集成电路制造
后摩尔时代
2021/12/3
当前集成电路制造技术进入了“后摩尔时代”,一方面需要继续延续摩尔定律(More Moore),探索新材料、新结构或新原理的器件,解决后摩尔时代器件微缩时的尺寸、集成度和功耗的瓶颈问题;另一方面需要超越摩尔定律(More than Moore),拓展集成电路芯片功能并实现异质集成。单
分子
器件则为这一发展策略,提供了与传统思路不一样的可行性方案之一(Fig. 1)。其中,构建多功能单
分子
器件不仅能够降...
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