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17.磁控溅射及多弧镀膜靶材
2008/1/16
17.磁控溅射及多弧镀膜靶材
(中国科学院金属研究所)
一、成果内容简介：铬靶主要用于磁控溅射镀茶色玻璃。由于铬的熔点高（约1800℃），铸造很困难，大多采用粉末烧结法，价格昂贵。中国科学院金属研究所采用均质合金特种冶炼技术，用铸造方法批量生产，降低了成果，并保证致密、杂质少，纯度高（>99.3%）。Ti-Al合金靶材是多弧离子镀（Ti，Al）N薄膜的核心材料，要求其成分均匀，纯洁度高...
几乎不反射光线：新“无反光”纳米镀膜材料诞生（图）
美国伦斯勒理工学院 纳米镀膜材料 光子学
2007/3/5
据美国国家科学基金委（NSF）2007年3月5日消息，美国伦斯勒理工学院（Rensselaer Polytechnic Institute）的研究人员新近开发出一种几乎不反光的纳米镀膜材料，反光率只有目前应用于电子设备的镀膜材料的几分之一。该材料有望为制造更高效的发光二极管（LED）和太阳能电池等创造条件。