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2024年3月22日，中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光元件技术与工程部研究团队，在利用不同激光损伤测试协议评估532nm薄膜偏振片的抗激光损伤性能和损伤机制方面取得新进展。相关成果以“Nanosecond laser damage of 532 nm thin film polarizers evaluated by different testing protocols”为...
中国科学院西安光机所在光学薄膜研究方面出版专著（图）
光学薄膜 光学晶体 光学元件
2023/9/13
2023年来，随着研发任务增多，西安光机所生产制造能力和工艺水平不断提升。先进光学元件试制中心徐耀研究员致力于化学法光学薄膜研究，突破大尺寸弯月面涂膜技术限制，创新核心纳米材料合成技术、复配技术以及涂膜设备，形成了高功率激光减反膜、光学晶体保护膜、无色差深紫外减反膜、高耐候性减反膜、可穿戴柔性减反膜等制备工艺，并在国家某重大专项上取得成功应用。
中国科大研制一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件（图）
基于光学薄膜 显微成像元件
2021/11/29
2021年11月29日，中国科大物理学院光电子科学与技术安徽省重点实验室/合肥微尺度物质科学国家研究中心张斗国教授研究组提出并实现了一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件，用作被测样本的载波片，可在常规的明场光学显微镜上实现暗场显微成像和全内反射成像，而获取高对比度的光学显微图像。研究成果以“Planar photonic chips with tailored angular transmissi...
弯月面化学涂膜技术因其具有大面积、低成本以及高效率等优势成为继旋涂、喷涂等传统涂膜工艺后极具发展潜力的新型化学薄膜涂覆技术。本文针对国家某重大项目对米级光学元件表面的化学薄膜涂覆需求，对基于弯月面涂胶的技术原理进行了系统研究，分析了涂胶压强、基片和狭缝间距以及材料亲疏水性与涂胶面形态的关系，实现了对弯月液面的精密调控并研制出基于弯月面化学薄膜涂覆技术的装备，在1 400 mm×420 mm尺寸玻璃...
纳米硅薄膜复合阳极的绿色微腔式OLED的研究
P型掺杂纳米硅薄膜 聚合物有机电致发光器件 微腔
2009/8/13
采用甚高频增强型等离子体化学气相沉积技术，通过优化薄膜的沉积条件制备出高性能的PncSi∶H薄膜材料(σ=5.86 S/cm、Eopt>2.0 eV).通过XRD测量计算出薄膜<111>、<220>和<311>三个晶向上的晶粒大小分别为15 nm、17 nm和21 nm；通过Raman测量，计算出其晶化率为35％左右.实验中，将P型纳米硅薄膜与氧化铟锡一起构成有机电致发光器件的复合阳极，研究了...