英文刊名：Microfabrication Technology
出版频率：双月刊
刊物简介：该刊向半导体集成电路领域的科研工作者报道国内外电子束、离子束、光子束为主的制造微电子器件与集成电路制造新工艺、新设备在科研、技术、工程和应用方面的成果及进展，涉及电子束曝光、X射线曝光、激光束曝光；等离子体干法刻蚀和其它新的图形刻蚀；离子注入掺杂及金属、非金属、有机物等材料改性；薄膜淀积和外延生长；超微结构及新型功能电子材料的研制、亚微米和纳米尺度的加工，ULSI、光电器件、量子器件、集成传感器、微机械及微结构等领域的加工技术及发展动态。设有综述、离子束技术、光子束技术、薄膜技术、微机械加工技术等栏目。被