搜索结果: 136-150 共查到“知识库 光学仪器及技术”相关记录5866条 . 查询时间(3.016 秒)
针对355 nm激光作用于熔石英光学元件后其损伤阈值容易变差的问题，提出使用1.7%纯HF溶液和0.4% HF与1.2% NH4F混合的BOE溶液对样品进行处理来提高它们的激光诱导损伤阈值（LIDT）。在相同的条件下将熔石英光学元件浸没到上述两种不同的刻蚀溶液中进行处理，通过测量刻蚀过程中元件重量变化来计算刻蚀速率，利用Zygo轮廓仪测试元件表面粗糙度，然后对355 nm激光照射下熔石英元件的损伤...
综述了近五年来为神光装置研制大口径熔石英采样光栅所取得的主要进展。提出了大尺寸采样光栅的化学机械抛光技术，将全息光刻-离子束刻蚀的430 mm口径采样光栅的采样效率均匀性控制在均方根值低于5%，满足了采样光栅的设计要求。针对采样光栅的阈值特性，利用二次离子质谱技术，定量表征了采样光栅制备过程中引入的污染及其清洗效果，优化、发展了采样光栅的清洗方法。探索了基于氢氟酸和感应耦合等离子体刻蚀的熔石英基底...
针对测量高功率激光驱动装置中大口径矩形反射光学元件的波前误差时测量角度和使用角度不完全相同引入的测量误差，提出了将测量角度下的反射波前转换到使用角度的反射波前的换算及恢复方法。首先分析了将斜入射测量角度下的波前转换到使用角度下波前的余弦换算方法，得到了实际测量角度与实际使用角度下的波前误差计算关系；然后计算并分析了双三次插值算法本身引起的中频PSD1（功率谱密度）误差，指出在满足有效口径测量的情况...
综述了国内外科研人员在高性能偏振膜的研制方面开展的工作，主要涉及偏振膜光谱性能、抗激光损伤阈值和膜层应力控制等方面的研究。针对我国神光系列装置对偏振膜的性能要求，简述了中国科学院上海光学精密机械研究所采用电子束沉积技术在光谱性能、损伤阈值和面形精度三个方面开展的研究工作。给出了在薄膜设计、制备和后处理等方面进行的研究和取得的进展。结合上述研究成果，得到了低缺陷密度、低应力的高性能偏振膜。由本科研团...
针对我国惯性约束聚变装置（ICF）对高性能传输反射镜元件的性能要求，探索了大口径传输反射镜制备涉及的关键技术与工艺。深入开展了K9玻璃坯片研制、光学冷加工、传输反射镜镀膜和激光预处理等方面的研究工作。提出了400 mm口径K9反射类坯片精密退火工艺，形成了高精度平面加工技术路线；制备了低缺陷薄膜，并且建立了大口径光学元件预处理装置。最后，综述了大口径高性能传输反射镜研制方面的主要成果。研制的400...
随动压力分布下的非球面抛光去除函数
非球面抛光 随动压力分布 变曲率去除函数 有限元法
2016/10/21
考虑去除函数对数控小工具抛光光学元件精度的影响，提出了如何根据需要加工的非球面参数以及抛光盘参数得到最优去除函数的方法。由于计算非球面上去除函数的核心是准确获得抛光盘与镜面间的动态压力分布，本文提出利用有限元法仿真抛光盘与非球面间的压力分布，并结合经典Preston方程与行星运动模型来得到非球面不同位置处的去除函数。基于随动压力分布模型，分析了沥青盘抛光非球面时在不同抛光位置处去除函数的变化。在曲...
为了高精度地检测长焦透镜的透射波前，提出了在Zygo干涉仪的平面光路中加入一个二元衍射元件提供参考波前的计算全息法（CGH）。介绍了计算全息法检测长焦透镜透射波前的理论，设计并研制了高精度计算全息板，并将其用于大口径长焦距透镜透射波前检测。理论分析和实际检测结果表明：该方法系统误差小，测量重复性精度优于0.004 λ（2σ RMS），与常规的菲索干涉法测量球面透镜透射波前得到的结果一致，从而验证了...
为了研究双透镜和球面镜之间不同球差分配对折反射式补偿器补偿效果的影响，以三级像差理论为基础，针对两个不同相对口径的凹抛物面镜，采用不同内部球差分配，分别设计了一组折反射式补偿器，将结果绘制成曲线.从曲线可看出，当球面镜球差分配系数从0逐渐增大到0.5时，对应折反射式补偿器补偿能力先增强，达到极值后下降.球面镜球差分配系数为零时，球面镜不承担球差，球面镜变成半径无穷大的平面镜，折反射式补偿器即变为O...
以剥层算法为基础，分别从非均匀解调应变大小、重构算法的特征参量以及光栅初始结构参量等对光纤布喇格光栅应变重构准确度的影响进行相关研究分析.结果表明：工作长度为5~30 mm的光纤布喇格光栅最佳应变解调在3 000 με以内，在该应变解调范围内，保持光栅剥层的分层长度为0.1 mm左右时，应变重构准确度和效率较优，折射率调制幅度越小，应变重构误差越小；同时，对于非均匀应变检测使用的强光栅，折射率调制...
为了实现大口径平面光学元件的高精度加工，开展了磁流变加工技术的研究。介绍了磁流变加工原理及去除函数的数学模型。根据磁流变加工的特点，建立了元件整体加工的工艺流程，给出了元件加工的工艺要素。然后，开发了抛光斑的提取软件，并基于轨迹段划分的速度模式开发了工艺软件，分析了工艺软件的各项功能模块。最后，基于元件加工的工艺流程，对一件800 mm×400 mm的元件进行了加工实验。利用检测设备测得了元件的低...
利用电子束蒸发技术制备了氧化铪薄膜，并分别用氧气氛下退火和激光预处理两种后处理方法对样品进行了处理。介绍了两种后处理工艺和相关的设备，测试分析了样品的透过率、吸收和抗激光损伤阈值。对比了两种后处理方法对降低吸收和提高激光损伤阈值的效果，讨论了它们的作用原理。实验结果表明，激光预处理能有效降低样品的吸收值，提高样品的抗激光损伤阈值。采用一步法（50%初始损伤阈值）预处理后，三倍频氧化铪薄膜的损伤阈值...
针对小特征尺寸连续位相板中频段成分分布广、误差梯度大的面形特点，分析了离子束修形技术加工连续位相板过程中影响加工精度的几种因素，包括扫描步距、材料去除方式、定位精度和材料去除量求解。分析指出：根据采样定理确定去除函数的扫描步距可实现对不同尺寸特征单元的有效加工；进一步优化材料去除方式能够确保修形过程中驻留时间的平稳运行，实现全频段误差一致收敛。另外，采用面形匹配方法对测量误差进行校正实验，可获取准...
磁流变抛光系统去除函数的原点位置标定
光学制造 磁流变抛光 去除函数 原点标定
2016/9/12
为了实现磁流变抛光的确定性加工，对磁流变抛光去除函数的原点位置进行了标定。分析了磁流变抛光去除函数的产生过程及其去除率分布。利用标准圆柱，建立了抛光轮最低点与数控加工中心测头的相对位置坐标变换关系，实现了光学元件在机床坐标系中的精确对准。通过在光学元件的特征点上进行去除函数实验测试，实现了抛光轮最低点对应的去除函数原点位置标定，对标定误差进行了分析。选择圆形平面光学元件，应用以金刚石颗粒为抛光粉的...
空间飞行器平台大气密度的在轨测量
激光雷达 大气密度 瑞利散射 飞行器
2016/9/6
针对飞行器在轨飞行时高空大气密度波动剧烈、气动特性辨识难度大等特点，提出了一种基于瑞利散射理论的成像激光雷达大气密度测量方法。利用气体分子的瑞利散射光强与分子密度成正比的特性，通过分析电子倍增成像探测器（EMCCD）拍摄的测量流场区域内激光后向瑞利散射光柱，得到了不同距离处高精度的在线大气密度数据。搭建了基于空间飞行器平台的大气密度在轨测量装置，并对该装置进行了标定。结果表明，所述方法对大气密度的...