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搜索结果: 1-2 共查到知识库 电子技术 CMP相关记录2条 . 查询时间(0.046 秒)
面向高端应用的高效能计算机一般具有高性能、高集成度、高热密度、高复杂性的特点,其研制是一项复杂的系统工程。每一环节,存在功能、性能、可靠性等相互制约但需同时兼顾的多个目标。在实践中这些方面的权衡设计如何以有序的方式展开,是一个亟待解决的关键问题。提出了可靠性与功能、性能权衡的设计方法,并应用到一款基于国产多核处理器的16路高密度计算机的自主研制中,软件仿真分析和系统实测验证了该权衡设计方法的有效性...
推导了具有对流效应的化学机械抛光(chemical mechanical polishing, CMP)润滑模型,研究各参数对压力场分布的影响. 在此模型基础上,研究了磁流体抛光液在外界磁场作用下的润滑模型, 以及外磁场对抛光过程中压力场分布的影响. 数值结果表明, 具有对流效应的润滑模型的压力分布与已有经验结果更一致,能更为有效地解释CMP过程中 的负压现象; 进一步通过外界磁场的作用, 可以有...

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