搜索结果: 1-15 共查到“知识库 无机非金属材料 膜”相关记录41条 . 查询时间(0.339 秒)
以0.4 mol/L Al(NO3)3乙醇溶液为电解液, 用阴极微弧电沉积方法在304不锈钢表面制备了80 μm厚的氧化铝膜层。分析了膜层的形貌、成分和相组成, 测试了膜层的抗高温氧化和电化学腐蚀性能。结果表明, 电沉积膜层由γ--Al2O3和α--Al2O3组成。膜层中含有少量的Fe、Cr、Ni元素, 表明膜/基界面附近的不锈钢基体在微弧放电作用下也参与氧化铝膜层的沉积和烧结过程。氧化铝膜层使不...
以0.4 mol/L Al(NO3)3乙醇溶液为电解液, 用阴极微弧电沉积方法在304不锈钢表面制备了80 μm厚的氧化铝膜层。分析了膜层的形貌、成分和相组成, 测试了膜层的抗高温氧化和电化学腐蚀性能。结果表明, 电沉积膜层由γ--Al2O3和α--Al2O3组成。膜层中含有少量的Fe、Cr、Ni元素, 表明膜/基界面附近的不锈钢基体在微弧放电作用下也参与氧化铝膜层的沉积和烧结过程。氧化铝膜层使不...
分别用溶胶-凝胶法和原位氧化聚合法制备了镨掺杂钡铁氧体/聚吡咯复合膜, 借助X射线衍射仪(XRD)、红外光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)、振动样品磁强计(VSM)和矢量网络分析仪等手段表征了复合膜的结构和形貌, 研究了样品的磁性能和吸波性能。结果表明, 复合膜的饱和磁化强度Ms和剩余磁化强度Mr均比钡铁氧体单膜的低, 复合膜的矫顽力Hc比钡铁氧体膜的高; 镨掺杂钡铁氧体--聚吡咯复合膜兼...
以Ar、CH4CO2反应气源, 以三聚氰胺的甲醇饱和溶液为掺杂源, 微波等离子体化学气相沉积法在单晶硅基体上制备了掺氮的金刚石薄膜; 原子力显微镜、拉曼光谱以及霍尔效应测试仪等手段表征了膜的组成结构和半导体特性。结果表明: 掺氮的金刚石薄膜晶粒平均尺寸约为20 nm, 表面粗糙度约为8.935 nm, 拉曼光谱为典型的纳米金刚石膜特征峰形; 掺氮膜材的电导率高达0.76×102Ω-1 cm-1度达...
以正硅酸四乙酯为前驱体, 制备出粒径20--100 nm的二氧化硅溶胶。用提拉法在玻璃基片上制备出氧化硅基多孔减反射膜, 并研究了不同粒径的二氧化硅溶胶老化后溶胶胶粒的微观结构与相应的多孔氧化硅减反射膜微观孔结构的差异。 结果表明, 颗粒粒径约20 nm的硅溶胶在老化过程中易团聚成较大的二次颗粒, 形成结构疏松的氧化硅多孔减反射薄膜。镀有这种减反射膜的玻璃, 其峰值透过率在波长510 nm处达到9...
面向过程工业的陶瓷膜制备与应用进展
陶瓷膜 材料设计 面向应用
2009/11/25
陶瓷膜具有优异的化学稳定性、机械稳定性及分离性能，在过程工业中获得了成功应用，成为我国膜领域中最有国际竞争力的膜品种之一。本文基于面向应用过程的膜材料设计的理论框架，系统概述了陶瓷膜的定量制备技术、面向应用体系的陶瓷膜选择与设计方法以及膜应用过程中污染控制的研究进展，并对未来我国陶瓷膜领域的发展态势进行了分析和研讨。
钽掺杂的钌基厚膜电阻导电相和玻璃相颗粒尺寸效应的研究
钌基厚膜电阻 颗粒尺寸效应 厚膜电阻导电机理
2009/9/1
本文报道了钽掺杂钌基厚膜电阻制备过程中导电相和玻璃相颗粒尺寸效应的实验研究结果。当导电相和玻璃相颗粒尺寸分别达到25和50nm时,电阻阻值和电阻温度系数也随之发生显著变化,并尝试根据厚膜电阻导电机理对其产生的原因进行定性的分析。
Fe_3O_4纳米粒子的磷酸胆碱仿细胞膜修饰
无机非金属材料 Fe3O4纳米粒子 磷酸胆碱
2009/3/12
用水相共沉淀法制备了超顺磁的Fe_3O_4纳米粒子,并通过Michael加成将2-(甲基丙烯酰氧基)乙基-2-(三甲基氨基)乙基磷酸酯(MPC)共价键合到氨基化的Fe_3O_4纳米粒子表面.与未修饰MPC的Fe_3O_4纳米粒子相比,修饰了MPC的纳米粒子能大大减少蛋白质的非特异性吸附,延长了复钙化凝血时间,并具有良好的生物相容性.
PMMA基底含氢非晶碳膜的结构和摩擦学性能
无机非金属材料 含氢非晶碳
2009/3/11
分别用磁控溅射和等离子体增强化学气相沉积方法在PMMA基底上沉积硅膜和含氢非晶碳(a-C:H)膜.用氩离子溅射硅靶制备硅膜, 以甲烷和氢气为反应气体在不同自偏压下制备非晶碳膜.分别用原子力显微镜、X射线光电子能谱和紫外拉曼光谱表征薄膜的形貌和结构,
并分别用纳米压痕仪和栓盘摩擦磨损试验机测试其机械和摩擦学性能. 结果表明,
沉积碳膜的PMMA基底呈现出高硬度、低摩擦系数和低磨损率的特性. 碳膜...
彩色双层复合镀膜玻璃的在线制备与性能
双层复合镀膜 浮法玻璃 在线镀膜
2009/3/6
分别采用电化学方法和化学气相沉积法对生产线锡槽和退火窑内的浮法玻璃两次镀膜,制备出具有阳光控制功能的双层彩色浮法玻璃,采用分光光度计、扫描电镜、能谱仪、透射电镜、原子力显微镜和二次离子质谱等方法分析了复合镀膜样品的形貌、结构,研究了不同深度的膜层成分和性能.结果表明,可见光透射比与硅烷浓度和电流强度之间有强烈依赖性;上层的硅膜表面均匀平整,表面粗糙度约9.66 nm,团粒尺寸约100 nm,其厚度...
单分散球形硫化镉膜的电化学沉积
无机非金属材料 硫化镉/球型 电沉积
2009/3/2
提出一种在ITO玻璃上电化学沉积制备单分散近球形硫化镉粒子的新方法.在S-CdCl_2-DMSO电沉积体系中加入少量的水制备出单分散膜层,调节沉积电流,电沉积时间或Cd~(2+)浓度可以改变膜层的粒子分布密度.结果表明,在电沉积的整个ITO玻璃表面上均分布有硫化镉沉积,且不同厚度膜层上的沉积其S与Cd的原子比不同.在电沉积硫化镉膜层上蒸镀铜酞菁制备出p-n异质结,其Ⅰ-Ⅴ特性表明,单分散近球形硫化...
利用XRD(包括sin2 φ法)研究了电子辅助热灯丝化学气相沉积法(EA--HFCVD)生长的自支撑硼掺杂多晶金刚石薄膜的残余应力和微观应力. 结果表明, 薄膜的残余应力为压应力, 随着薄膜制备过程中硼流量的增加, 应力值有减小的趋势. 薄膜的微观应力随着硼流量的增加, 由拉应力转变为压应力然后又转变为拉应力. 残余应力和微观应力的变化归因于一定量的硼掺杂导致的多晶膜中晶粒尺寸、晶面取向及孪晶变化...
金刚石厚膜的晶界对耐磨性的影响
金刚石厚膜 晶界 耐磨性
2009/2/11
用直流辉光等离子体化学气相沉积制备金刚石厚膜,用氢的微波等离子体对其抛光截面进行刻蚀,研究了晶界对金刚石厚膜耐磨性的影响.结果表明:在金刚石膜的生长过程中,随着甲烷流量的增加,金刚石膜的晶界从纵向排列为主过渡到网状结构,晶粒内部缺陷逐渐增加,杂质、空洞主要分布于晶界处.金刚石膜的磨耗比随着晶界密度、宽度、杂质含量及晶粒内部缺陷的增加而下降.晶界是杂质、空洞主要富集区,是影响金刚石厚膜耐磨性的主要因...
壳聚糖/羟基磷灰石引导组织再生膜材料的制备和性能
壳聚糖 羟基磷灰石 交替沉积
2009/2/11
用生物矿化交替沉积法成功在CS基质膜表面构建HA涂层,并进行了表征.结果表明,HA含量随着沉积循环数增加而增加,且在4个循环后基本达到饱和,饱和含量为8.8%;随着沉积循环数增加HA由均一颗粒状转变为无规则平板状;拉伸强度由纯CS膜的68.6 MPa降低到沉积5个循环后的46.9 MPa.控制沉积数可调控HA的含量、形貌和力学强度,以满足引导组织再生术需要.
离子轰击能量对ZrN/TiAlN纳米多层膜性能的影响
无机非金属材料 离子束辅助沉积(IBAD)
2009/2/11
使用超高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)制备一系列具有纳米调制周期的ZrN/TiAlN多层膜,研究了离子辅助轰击对薄膜性能的影响.结果表明:离子辅助轰击使大部分ZrN/TiAlN多层膜的纳米硬度和弹性模量值高于两种个体材料硬度的平均值;离子的轰击和薄膜表面原子与轰击离子之间的动量传输提高了薄膜的致密度;当轰击能量为200 eV时,多层膜的硬度最高(30.6 GPa),弹性模量、表面粗糙度和摩擦系...