搜索结果: 91-105 共查到“知识库 近场光学及纳米检测技术”相关记录118条 . 查询时间(2.512 秒)
We review the field of thin-film silicon solar cells with an active layer thickness of a few micrometers. These technologies can potentially lead to low cost through lower material costs than conventi...
Wafer Surface Charge Reversal as a Method of Simplifying Nanosphere Lithography for Reactive Ion Etch Texturing of Solar Cells
Simplifying Nanosphere Lithography Solar Cells
2008/10/30
A simplified nanosphere lithography process has been developed which allows fast and low-waste maskings of Si surfaces for subsequent reactive ion etching (RIE) texturing. Initially, a positive surfac...
nm- and μm-Scale Surface Roughness on Glass with Specific Optical Scattering Characteristics on Demand
Specific Optical Demand
2008/10/29
During maskless ion etching of amorphous glass, self-organization can arise in certain etch parameter ranges, which leads to dense-lying dots/cones with typical diameters and heights in the 30–300R...
基于SIL近场光学存储机理研究（2006）
近场光学 固体浸没透镜 光存储
2008/10/7
该项目采用矢量衍射理论的方法，对SIL系统中的若干机理和理论问题进行了探索。建立两套基于SIL的近场光学静态存储试验系统，在理论研究的基础上，进行了近场写入记录实验，获得了200nm的记录标记，深度为70nm，采用近场光学探针方法得到120nm的存储记录标记；用近场扫描显微镜测量了SIL聚焦光斑的近场光场分布，对SIL系统的信号探测进行了初步实验研究。提出基于SIL的近场光学虚拟光探针，采用FDT...
基于SIL的近场光学存储机理研究（2004）
近场光学 固体浸没透镜 光存储
2008/10/7
提出基于SIL的近场光学虚拟光探针，并采用FDTD法对这个方案进行了数值模拟计算研究，对隐失场干涉的规律做了初步的探索。提出了隐失场变迹术的概念，为优化设计明确了方向。采用聚焦离子束制作了200nm的微型孔径光栏，对双光束隐失场进行了近场光探测，在200nm深度范围内探测到周期为180nm的隐失场干涉条纹。
用近场光学研究免疫分子识别
免疫 分子识别 近场光学
2008/10/7
用NSOM和AFM等研究生物分子和细胞，首次报导了PE标记的免疫分子（IgG）结构及其自组装特征。用分子自组装技术首次组装了纳米分辨的电化学免疫传感器，探测极限达0.04ng/ml，测定了单个抗原抗体分子的力曲线（离解力1.6～4.1nN）。对静止淋巴细胞和经佛波醇酯（PDB）激活后的淋巴细胞进行了全貌和细胞表面超微结构研究，发现激活后淋巴细胞体积增大，表面有分子团突出及凹陷，边缘有微管及枝状突触...
介绍一种非探针近场光学显微镜，并对它的图像实现过程及处理方法进行了讨论。该装置以阿达玛变换成像理论为基础，用纳米多孔编码板代替光纤探针获得了较高的光学信噪比。成像研究表明，该装置可对近场衰逝波分量进行有效探测并能实现超衍射极限成像，为近场光学探测研究提供了一种新的思路。
高聚物与光场相互作用的微观机制
高聚物 光场 天线模型 辐射
2008/9/11
分析光场与高聚物相互作用的微观机制，介绍高分子与小分子在光场作用下的极化过程。对在窄束光场作用下，高分子链极化后链上各处极化程度的分布情况进行研究，指出对于高度拉伸的聚合物薄膜，电偶极子模型不适合准确解释高分子与光场相互作用的微观机制。为此，采用符合实际的天线模型分析高分子天线与窄束光场的相互作用，从理论上推导出天线模型高分子链上一小段的极化公式，并用离散变分方法——DVM（discrete va...
关于折射率对散射光场分布影响的研究
光散射 Mie散射理论 折射率
2008/9/9
根据Mie散射理论,采用理论计算和实验相结合的手法,研究了光散射现象以及散射介质的折射率对散射光场分布的影响.通过对空气中不同折射率的散射介质形成的散射光场光强的实验比较,论证了散射介质折射率的实部变化对散射光强的影响不大,其主要影响是通过对相位的变化来实现的,也即散射介质折射率的虚部变化对光强的影响很大,在实际应用中不可忽略.这一结论对以散射光场的分布为基础的各种研究具有一定的指导意义.
级联介质的空间排布对光场特性的影响
非线性光学 光束传播 菲涅耳衍射 非线性介质
2008/8/5
基于菲涅尔衍射原理，应用傅里叶变换方法，从理论上推导了高斯光束经级联非线性介质传输后任意位置处光场分布的解析表达式,研究了光场峰值强度、峰值出现的位置以及光束的束宽和调制因子等参量在级联介质中的变化规律。结果表明：随着非线性效应的增强，光场峰值强度逐渐增大，峰值距离逐渐缩短，光束束宽不断减小而调制因子逐渐增大。在介质排布中要尽量错开光束峰值位置，采用均匀排布方案虽然可以降低元件受损的风险，但还需对...
本文在介绍近场光学显微镜原理的基础上，对近场光学显微技术进行了一定深度的探讨，并着重研究了纳米级探针的制作和纳米级样品与探针间距的控制这两个近场光学显微技术中的关键问题，说明了近场光学显微探针的工作方式，阐述了近场光学成像的衬度类型，介绍了近场光学显微技术在多个领域的应用。在参考大量国内外最新研究成果的基础上，提出了一些个人的见解。
摘要:利用傅里叶模式理论分析了具有高衍射效率的全内反射式衍射光栅在TE 和TM偏振态下的近场光分布特点，讨论了光栅结构参数以及入射角度对光栅内电场增强的影响。结果表明：全内反射光栅内部电场分布对偏振态较敏感，光栅槽深和占宽比对电场增强影响较小，光栅内的峰值电场随光栅周期增大而增大，并且峰值电场随着入射角度的增大而减小。在应用于高功率激光时，降低光栅内部的电场增强可以有效降低损伤风险。
基于晶体旋光效应的近场光学空间滤波
空间滤波 近场 偏振光 晶体旋光效应
2008/3/7
摘要:在激光传输与放大系统中，激光束的空间滤波是光束质量控制的重要环节。利用各向同性晶体的旋光性，采用偏振光检偏法选择不同空间频率光束的通过与阻挡，实现激光光束的近场空间滤波。用多个滤波器串接构成滤波器组，可提高光束空间窄带滤波性能。该方法有利于克服激光工程中采用4f滤波带来的空间滤波器体积庞大与抽空耗能的缺点。