搜索结果: 226-240 共查到“知识库 薄膜光学及技术”相关记录295条 . 查询时间(2.386 秒)
玻璃表面层的测量及其对薄膜光学性能的影响
玻璃 溶胶-凝胶 薄膜传感器 等离子体激元
2008/9/28
将p-偏振光双面反射法应用到各种不同膜系的光学测量中。薄膜折射率、消光系数及厚度的测量精度达10^(-4)、10^(-4)、10^(-1)nm。分析观测了不同化学清洗下玻璃表面的理化性质，为制备高激光损伤阈值的薄膜提供了有力的工具。将p-偏振光双面反射法应用于光化学传感器的信号检测上，选择二氧化锡半导体溶胶-凝胶膜作为气敏薄膜，分析了膜层光学参数与传感器灵敏度的关系，并确定了薄膜的最佳光学参数。气...
功能型光学薄膜应用研究
光学薄膜 节能
2008/9/28
该项成果采用真空镀膜的方法，在聚脂薄膜或平板玻璃上镀制一种功能型光学薄膜。该种薄膜具有较低的反射率，使用在建筑物窗或汽车窗上，使室内或车内不受阳光直接照射，避免眩光；由于人眼的单视性，室内或车内白天能看到外面的景物，而室外或车外却看不见里面的摆设，起到窗帘的作用；该种薄膜能反射太阳光谱中起加热作用的近红外线（波长0.7～3μm），具有一定的冬暖夏凉的保温效果。研究中用镍-铬-铁-铜-锆合金材料制备...
FDLC薄膜的化学结构对光学性能的影响
氟化类金刚石薄膜 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 光学带隙 沉积温度
2008/9/27
研究氟化类金刚石（FDLC）薄膜化学结构对光学性能的影响，用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）法在玻璃基底上沉积氟化类金刚石（FDLC）薄膜，用俄歇能谱、傅里叶红外光谱(FTIR)、紫外可见光分光光度计 (UV-VIS)对薄膜进行分析。分析结果表明：沉积薄膜是典型的类金刚石结构，薄膜中氟主要以C-F2键存在；随着沉积温度的提高，C-F2含量先增后减；随着F含量的增加，FDLC薄膜的sp3含...
He-Ne散射光检测光学薄膜激光损伤阈值
He-Ne散射光 激光损伤阈值 等离子体闪光 在线检测
2008/9/27
准确测定光学薄膜的激光损伤阈值可以衡量光学薄膜的抗激光损伤能力，测定损伤阈值的关键是准确地判定损伤的发生与否。建立了He-Ne散射光检测光学薄膜激光损伤阈值系统。通过测量同一样品点的He-Ne散射光能量变化来判断薄膜表面发生的损伤，并对制备的类金刚石薄膜与HfO2/SiO2反射膜进行了阈值测试。与等离子体闪光法的阈值测试结果进行比较，具有较好的一致性。分析表明：He-Ne散射光测试系统能有效地判断...
LB膜的制备及其在光学中的应用
Langmuir-Blodgett膜 单分子膜 应用
2008/9/25
介绍LB膜的研究历史、特点、制备方法及其在光学中的应用.分析了影响成膜质量的因素,指出了LB膜在光学领域的应用前景.
MathCAD在椭圆偏振仪测定薄膜光学常数中的应用
椭圆偏振仪 薄膜光学常数 薄膜折射率
2008/9/24
薄膜光学常数决定薄膜的光学性能。通过对椭圆偏振仪测试原理的分析，得到求解薄膜光学常数超越方程的数值算法简化公式，并利用MathCAD的“Solve Block”模块开发了基于Windows系统的椭圆偏振测量薄膜光学常数的计算程序，该程序可用于单层有吸收薄膜或无吸收薄膜折射率和厚度的计算。实际应用结果表明，该计算具有数值准确、精度高、运算速度快、适应性好，对系统无特殊要求等优点，可用于薄膜制备过程的...
掺杂透明导电半导体薄膜的光电性能研究
溶胶 凝胶 AZO薄膜 真空退火
2008/9/22
掺杂氧化锌透明导电膜(AZO)是一种重要的光电子信息材料，其制备方法有真空蒸镀法、磁控溅射法，化学气相沉积和脉冲激光沉积法等。该文采用溶胶凝胶（solgel)工艺在普通玻璃基片上成功地制备出Al3+掺杂型ZnO透明导电薄膜。将这种薄膜在空气和真空中以不同的温度进行了退火处理，并对薄膜进行了XRD分析和光电性能研究。结果表明，所制备的薄膜为钎锌矿型结构，在c轴方向择优生长，真空退火有利于薄膜结晶...
电子束蒸发TiO2薄膜的光学特性
电子束蒸发 TiO2薄膜 折射率 红外吸收光谱
2008/9/22
研究了不同工艺参数条件下，电子束蒸发TiO2薄膜的光学特性。在正交实验的基础上，利用离子束辅助沉积技术，获得了影响TiO2薄膜折射率的主要因素．得到了TiO2薄膜的折射率随氧气分压的关系。对离子氧和分子氧两种情况下TiO2薄膜的折射率进行了比较．得到了TiO2薄膜的折射率与沉积速度的关系，并给出了TiO2薄膜的红外吸收光谱。
ZnO纳米颗粒薄膜的制备与光致发光特性研究
ZnO纳米颗粒 高分子覆盖 光学特性
2008/9/20
利用高分子包覆法(Polymer Capping Method)在Si衬底上生长了颗粒分布均匀、致密的纳米ZnO薄膜.样品的形貌和光学性能分别使用SEM,AFM和PL谱进行表征.实验发现,前驱体溶液的pH值对纳米颗粒的分散性和尺寸有很大影响,进而影响紫外发光峰位.在本实验条件下,随纳米颗粒尺寸增大,PL谱的紫外发光峰红移,符合量子尺寸效应.
短波通滤光片膜系设计
短波通滤光片 膜系设计 等效折射率 周期数
2008/9/19
详细介绍用等效折射率概念设计短波通滤光片的原理和计算方法。根据原理和方法，选择二氧化钛（TiO2）作为高折射率材料、二氧化硅（SiO2）作为低折射率材料。首先从理论上计算出用这2种材料设计的波长λ=950～1150nm的短波通滤光片所需要的周期数，然后给出短波通滤光片的主膜系和光谱曲线。由于据此周期数设计出的膜系光谱曲线在750～810nm处的透过率不符合要求，因此对该膜系进行了改进。依照改进的设...
传统多层膜设计所用的全局寻优法的速度非常慢，有时还很难得到理想的膜系。根据Frensnel反射系数公式计算多层膜的反射率，利用单纯形法对软X射线和X射线波段多层膜进行调优，可在短时间内优化出最接近目标光学性能的多层膜膜系结构。计算了不同波长软X射线周期性多层膜的最高理论反射率。单纯形调优算法在保证优化结果与随机搜索法优化结果近似相同的基础上，使优化计算速度提高了十倍以上。同时还用单纯形调优法优化设...
光学薄膜的误差、允差分析及生产过程中的计算机控制
薄膜 误差 灵敏度
2008/9/10
指出实际生产出的薄膜的光学特性和理论计算得到的光学特性常常存在差别的原因．诸如理论模型假设时忽略一些因素引起的差别．薄膜久置引起的薄膜结构改变或吸潮、污染等．以及制造过程中造成的误差(光学监控系统引起的薄膜厚度和折射率的误差)。针对各种误差的来源提出了相应的改善方法。通过对光学监控系统引起的薄膜厚度和折射率的误差进行分析．提出膜系的允差分析．尽量减小由于监控设备引起的误差。最后介绍了实际生产过程中...
光学薄膜残余应力分配预测模型计算方法研究
薄膜 残余应力 预测模型
2008/9/9
残余应力是光学薄膜研究的一个重要组成部分，它对光学元器件有很大的影响。根据弹性力学原理，基于应变不匹配，提出了一种可以预测薄膜残余应力分配的理论模型计算方法，并将计算结果与干涉仪测量值进行了对比。利用所建立的模型分析了薄膜参数变化时基底残余应力的变化情况。结果表明：所建模型合理；随着镀膜温度的增加，基底总残余应力随镀膜温度升高而呈增大的趋势;本征应力变化不太大；随着基底厚度的减小，基底上下表面应力...
应用MOCVD技术研究生长GaAsGaAIAs薄膜，为中国批量生产三代徽光材料片做前期的技术准备。国内外技术水平及发展趋势：国外以GaAs/GaAiAs为光电阴极的三代微光管已经成为定型产品，能够大批量生产，在军事上得到了广泛应用。国内的三代微光材料片仍处于小规模研究阶段，正在努力攻关。项目的成熟程度：实验室研究阶段。主要技术指标：a.GaAsGaAlAs薄膜的多层结构；b.铝组分值0.2-0.3...