搜索结果: 181-195 共查到“知识库 薄膜光学及技术”相关记录295条 . 查询时间(3.208 秒)
离子注入掺杂锐钛矿TiO2薄膜的光学性能
离子注入 吸收光谱 射频磁控溅射
2009/8/21
在玻璃基体上，采用射频磁控溅射方法在不同的基体温度下制备了TiO2薄膜，然后在薄膜中注入注量分别为5×1016, 1×1017和5×1017/cm2的N离子以制备N掺杂的TiO2薄膜。X射线衍射结果表明：制备出的TiO2薄膜为锐钛矿型。X射线光电子能谱研究结果表明：注入的N离子与TiO2晶粒相互作用，形成了含氮的TiOxN2-x化合物，从而改变了TiO2薄膜的吸收边；随N离子注量增加，吸收边移动更...
热蒸发YbF3薄膜的机械特性
光学薄膜 应力分析 附着力
2009/8/21
实验研究了热蒸发YbF3薄膜在大气中的应力和附着力。利用Veeco干涉仪，测试了各种工艺条件下单层YbF3薄膜的应力。结果发现:YbF3薄膜的残余应力为张应力，热应力在残余应力中的比重较大；沉积方式对薄膜应力的影响不大；薄膜应力在大气中有一个释放的过程。热处理后，YbF3薄膜应力增大。
溶液浇铸法制备氘代聚乙烯薄膜
溶液浇铸法 氘代聚乙烯 薄膜
2009/8/21
采用改进的溶液浇铸法，用氘代聚乙烯为原料,制备了厚度为100, 200, 400 μm的氘代聚乙烯薄膜。研究了溶液温度、干燥温度、真空加热温度及时间等因素对成膜性、薄膜均匀性和透明性的影响，确定了最佳工艺条件：溶液温度120～130 ℃，干燥温度80～100 ℃，加热温度120 ℃，加热时间1 h。3维视频显微镜和原子力显微镜表征结果表明:制备的薄膜透明性较好,厚度较均匀;薄膜表面起伏较小。
酸碱分步催化对溶胶-凝胶ZrO2膜光学性能的影响
溶胶-凝胶 催化剂 折射率
2009/8/21
以丙醇锆作为前驱体，利用酸碱分步催化法制备了ZrO2溶胶，用粒度仪检测胶体粒度；用N2吸脱附表征凝胶的结构；采用旋转镀膜法在K9基片上镀制单层ZrO2薄膜；用分光光度计和椭偏仪检测膜层的透过率、折射率及膜层厚度；用红外光谱仪检测胶体内部粒子间化学键状态。实验结果发现,在脉宽1 nm，波长1 064 nm时，采用此种胶体镀制的单层ZrO2膜层折射率达到1.74，单层膜损伤阈值为9.0 J/cm2,表...
椭偏光散射分析类金刚石薄膜的散射特性
光散射 椭偏法 光学薄膜 相关性
2009/8/21
基于光学薄膜反射椭偏法的测量原理，对光学薄膜散射椭偏特性进行了研究。给出了光学薄膜散射逆问题的解决方法，并对不同脉冲频率下采用脉冲真空电弧离子镀技术沉积的类金刚石薄膜的散射特性进行了研究。分析了光学薄膜界面的相关特性以及膜层中局部缺陷对散射光椭偏特性的影响。结果表明:随着脉冲频率的增加，所沉积的类金刚石薄膜的相关性变差，且薄膜中的局部缺陷引起的体散射越明显。
LiB3O5晶体上四倍频增透膜设计
光学薄膜 四倍频增透膜 矢量法
2009/8/14
采用矢量法设计了三硼酸锂（LiB3O5,LBO）晶体上1 064 nm、532 nm、355 nm和266 nm四倍频增透膜.结果表明,在1 064 nm、532 nm、355 nm和266 nm波长的剩余反射率分别为0.001 9％、0.003 1％、0.006 1％和0.004 7％.根据容差分析,薄膜制备时沉积速率准确度控制在＋6.5％时,基频、二倍频、三倍频和四倍频波长的剩余反射率分别增加...
L-MBE法生长ZnO薄膜的退火研究
氧化锌 激光分子束外延 退火
2009/8/14
研究了空气退火对于激光分子束外延(L-MBE)法制备的ZnO薄膜光学及结构特性的影响,报道了采用小角度X射线分析(GIXA)技术对于ZnO薄膜退火前后的表面及界面状况的定量分析结果.RHEED衍射图样表明,薄膜经过380℃及600℃原位退火后,其表面仍然较为粗糙.而XRD在面(in-plane)Φ扫描结果显示出经过800℃空气退火之后,薄膜具有更好的外延取向性.GIXA分析结果表明,800℃退火后...
Mo/Si多层膜表面保护层设计
薄膜光学 多层膜 表面保护层
2009/8/14
为提高Mo/Si多层膜的稳定性与使用寿命，通过分析多层膜驻波电场的分布，对表面保护层及多层膜最上层材料的厚度进行优化设计，使优化后的反射率最高.计算表明，一定厚度的表面保护层总对应一个最优的最上层材料厚度.在13.36 nm波长，膜对数为50的Mo/Si多层膜10度入射的理论反射率为74.47%；当添加厚度为2.3 nm的Ru作为表面保护层，对应多层膜最上层Si的优化厚度为3.93 nm，其理论反...
磁控溅射参数对NiOx薄膜光学常数的影响
光学常数 NiOx薄膜 溅射参数
2009/8/14
采用反应性磁控溅射法制备了NiOx薄膜,并结合椭圆偏振仪、XRD和XPS研究了溅射参量对其光学常量的影响.NiOx薄膜的光学常量随着O2/Ar流量比的增大而减小；热退火后,折射率增大而消光系数下降了50%；溅射功率越大折射率也越大,而工作气压越大折射率反而越小.这些变化分别与薄膜中存在间隙O和Ni空位、NiOx分解以及NiOx薄膜的致密度有关.
电场的增强作用对介质膜光栅损伤形貌的影响
激光损伤阈值 电场增强 介质膜光栅
2009/8/14
研究了电场在介质膜光栅结构中的增强效应对其抗激光损伤阈值的影响.使用傅里叶模式方法计算了电场在介质膜光栅浮雕结构内的分布.数值分析表明：电场在介质膜光栅中增强的最大值为入射光的2倍,其最大的位置出现在相对于入射光对面的光栅槽侧壁。实验测试介质膜光栅样品在1 064 nm和12 ns, 51.2°和TE偏振光入射时,其抗激光损伤阈值为6.61 J/cm2.对损伤形貌进行扫描电镜精确分析,发现介质膜光...
溅射条件对ZnS薄膜的光学常量和微结构的影响
射频溅射 ZnS 光学常量
2009/8/13
为了研究制备条件对射频溅射ZnS薄膜光学常量和微结构的影响，在浮法玻璃上制备了不同溅射气压、溅射功率和溅射温度的ZnS薄膜，利用紫外可见近红外分光光度计在300～2 500 nm的波长范围内测量了薄膜的透射和反射光谱，并通过光谱拟和计算出ZnS薄膜的光学常量以及禁带宽度.通过X射线衍射分析了薄膜的微结构随溅射温度的改变.研究结果表明，随着制备条件的不同，ZnS薄膜的光学常量和微结构会发生变化.
为了提高Glan-Taylor棱镜的透射率,研究了Glan-Taylor棱镜在可见光波段及1 064 nm波长处减反射膜膜的设计和制备.为提高薄膜和冰洲石晶体的附着力,采用沉积Al2O3为过渡层,ZrO2作缓冲层的方法,用单纯形优化的方法进行膜系优化设计.用电子束沉积和离子束辅助沉积的方法制备了多层减反射膜,并采用石英晶体振荡法监控膜厚和沉积速率.测量结果表明,在可见光波段及1 064 nm波长处...
蓝宝石表面处理对氮化镓光学性质的影响
GaN薄膜 光学性质 表面处理
2009/8/13
采用化学方法腐蚀部分c面蓝宝石衬底,在腐蚀区域形成一定的图案,利用LP-MOCVD在经过表面处理的蓝宝石衬底上外延生长GaN薄膜.利用GaN薄膜光学透射谱,结合椭偏测量得到的折射率色散公式,计算得到GaN薄膜厚度,与椭偏光谱结果几乎一致；在经过表面处理的蓝宝石衬底上外延生长的GaN薄膜表现出更优异的光学质量和结晶质量,其透射谱具有更高的透射率和更大的调制深度,而且其光致发光谱中的黄光带几乎可以忽略...
热处理温度对ZnO∶Al薄膜性能的影响
溶胶-凝胶法 ZnO∶Al薄膜 热处理
2009/8/13
利用溶胶-凝胶技术在玻璃衬底上制备了ZnO∶Al薄膜，表征了薄膜的结构、光透过和光致发光特性，探讨了热处理温度对薄膜晶体结构和光学性质的影响.结果表明，在热分解温度400 ℃和退火温度600 ℃时，ZnO∶Al薄膜的C轴择优取向明显，透过率较高.在热处理温度400 ℃情况下，激发波长340 nm的光致发光谱中有三个发光中心，紫外发光强度随退火温度的升高先升高后下降，500 ℃时发光强度最强.其它两...
Planar Lenses Based on Nanoscale Slit Arrays in a Metallic Film
Planar Lenses Nanoscale Slit Arrays Metallic Film
2009/8/10
We experimentally demonstrate planar lenses based on nanoscale slit arrays in a metallic film. Our lens structures consist of optically thick gold films with micron-size arrays of closely ...