搜索结果: 151-165 共查到“知识库 薄膜光学及技术”相关记录295条 . 查询时间(4.11 秒)
小波变换表征多层膜氧化层、界面层和膜厚漂移
薄膜光学 纳米多层膜 小波变换
2009/10/15
用小波变换的方法分析了纳米多层膜的X射线掠入射反射率测试曲线.从小波变换的自相关函数峰位和峰强度信息中得到了常规曲线拟合方法难以表征的含有氧化层、界面层或厚度漂移的多层膜结构，利用其作为多层膜的初始结构再进行常规的曲线拟合，可实现多层膜结构精确表征的目的.研究成功地鉴别出钒单层膜的表面存在约3 nm厚的氧化层,分析得到Mo/Si多层膜的界面纯粗糙度约0.42 nm,表明在Ni/C多层膜中接近表面和...
UBMS技术制备DLC薄膜的光学常数椭偏分析
类金刚石薄膜 椭偏仪 非平衡磁控溅射
2009/9/22
采用宽光谱变角度椭圆偏振仪对非平衡磁控溅射（UBMS）技术沉积的类金刚石（DLC）薄膜的光学常数进行了测量与分析。在建立模型时，根据DLC薄膜成膜特性，分析和调整了模型结构；综合考虑了表面粗糙度、薄膜与基底表面及界面因素对测试结果的影响，将表面层和界面层分离出来，并采用有效介质方法对它们的影响作了近似处理。结果表明：硅基底上采用UBMS技术制备DLC薄膜的椭偏数据，经该模型拟合后均方误差（MSE值...
提出将成熟的光学薄膜技术和激光全息技术结合起来制作一维镀膜激光全息光子晶体，用特征矩阵方法研究了该光子晶体的梳状滤波特性，发现：随着两端薄膜的周期数增大，透射峰的中心波长向中间收拢，透射峰之间的间隔变小；随着激光全息光子晶体的周期数增大，透射峰的个数增加，透射峰之间的间隔变小；随着制作激光全息光子晶体时的激光的强度增大，l透射峰的中心波长向长波方向移动，透射峰的宽度变小。
二氧化锆薄膜表面粗糙度的研究
二氧化锆薄膜 表面粗糙度 离子束辅助沉积
2009/9/22
采用电子束蒸发工艺，利用泰勒霍普森相关相干表面轮廓粗糙度仪，研究了不同基底粗糙度、不同二氧化锆薄膜厚度以及不同的离子束辅助能量下所沉积的二氧化锆薄膜的表面粗糙度。结果表明：随着基底表面粗糙度的增加，二氧化锆薄膜表面粗糙度呈现出先缓慢增加，当基底的粗糙度大于10nm后呈现快速增加的趋势；随着二氧化锆薄膜厚度的增加，其表面均方根粗糙度（RMS）先减小后增大；随着辅助沉积离子能量的增加，其表面粗糙度呈现...
基于遗传算法的减反射膜的优化设计
薄膜 膜系设计 遗传算法
2009/9/22
为了研究膜系设计领域内的全局性优化方法，提出了基于遗传算法的膜系设计方法。编制了用遗传算法进行膜系设计的通用程序，并在各种类型的减反射膜设计中取得了成功。结果表明：基于遗传算法得到的减反射膜具有与近期发表的膜系结果相一致或更好的光谱性能和全局性。同时在应用遗传算法进行膜系设计时，不需要给定初始膜系，可以设定膜层厚度边界和膜层数，这对于设计和镀制有现实意义的光学薄膜极为有利，并且只要改变目标反射率就...
宽束冷阴极和部端霍尔离子源对薄膜透过率和应力影响的比较
宽束冷阴极离子源 端部霍尔离子源 离子束辅助沉积
2009/9/22
在宽束冷阴极离子源和端部霍尔离子源辅助沉积情况下，利用南光ZZS7001/G箱式镀膜机，通过实验分别验证了这两种离子束辅助沉积对光学膜层透过率和应力的影响。通过对大量实验数据进行分析，得出利用低能量和大电流离子束辅助沉积光学薄膜时，膜层性能优于高能量离子束辅助沉积膜层。分析了膜层特性改变的原因，并提出了合理的工艺参数。实验结果表明，低能量、大电流的离子束辅助沉积使光学薄膜的性能更佳。
宽束冷阴极离子源分时中和技术的研究
宽束冷阴极离子源 束流密度 电子能量
2009/9/22
离子束辅助镀膜沉积过程中，绝缘薄膜表面的电荷积累效应严重影响了薄膜质量。通过对宽束冷阴极离子源引出栅部分的改进，采用分时引出电子和离子方法，使正负电荷中和，以消除薄膜表面的放电现象，并对引出电子束的束流密度、能量、发射角等参数进行了测试。实验结果表明：在引出电压为600V时，电子的平均能量为100eV左右；引出电子束的发射角可以达到±40°，在±15°范围内的束流密度波动小于±5%。引出电子的束流...
三波长宽角度消偏振平板分光膜的设计
全介质材料 宽角度 消偏振
2009/9/22
分光膜都是倾斜使用的，不可避免地存在S和P 2个偏振分量的分离。在许多实际应用中，这是一个迫切需要解决的刺手难题。基于Thelen和Costich理论，选择初始膜系材料和结构，并在Needle合成法与Conjugate graduate精炼法的帮助下，采用全介质材料设计了532nm，633nm和1315nm三波长宽角度消偏振平板型分光膜，空气中入射角的变化范围为45°±5°。结果表明：在宽角度范围...
透0.45μm～1.6μm反8μm～12μm宽光谱分色滤光片的制备
分色滤光片 诱增透 磁控溅射
2009/9/22
光谱分色滤光片对成像光谱技术至关重要，是实现光电仪器体积小、质量轻的一个重要器件。根据金属膜具有高反射率的特点和可以进行诱增透的原理，介绍了透0.45μm～1.6μm反8μm～12μm光谱分色滤光片的膜料选择和膜系设计，并应用JGP560A2型磁控溅射镀膜机制备出了光谱性能和理化性能较好的宽光谱分色滤光片，其光谱性能达到0.45μm～1.6μm波段范围内，平均透过率大于80%；8μm～12μm波段...
椭偏光谱测量中椭偏参数的灵敏度分析
光学薄膜 椭偏测量术 光学常数
2009/9/22
在对椭圆偏振测量的基本原理进行了简单介绍和推导后，讨论了椭圆偏振测量中椭偏参数关于薄膜参数的灵敏度以及入射角对椭偏参数的影响，并进行了具体的仿真分析,得到如下结论：椭偏参数Delta对薄膜光学常数和薄膜厚度变化的灵敏度明显高于椭偏参数Psi。在椭偏数据处理中，椭偏参数Delta的测量精度直接影响薄膜光学常数和薄膜厚度的拟合精度。为了提高椭偏参数Delta的测量精度，可以选择入射角在膺布儒斯特角附近...
直流磁控溅射Cr-Cr2O3复合金属陶瓷薄膜光学特性研究
直流磁控溅射 金属陶瓷薄膜 光学常数
2009/9/21
采用直流反应磁控溅射技术在不同靶电流条件下制备了Cr-Cr2O3金属陶瓷薄膜，并利用椭偏仪测量了薄膜的光学常数。采用修正的 M-G (Maxwell-Gannett)理论对不同靶电流条件下沉积的Cr-Cr2O3金属陶瓷薄膜的光学常数进行了理论计算，并将理论计算结果与实验数据进行了比较。结果表明：随着靶电流的增加，膜层中金属微粒体积百分比增加，金属微粒的平均半径随之增加，且金属微粒逐渐趋于扁圆形，理...
沉积工艺和离子后处理对HfO2薄膜残余应力的影响
残余应力 HfO2薄膜 电子束蒸发
2009/9/17
采用电子束直接蒸发氧化铪和反应蒸发金属铪两种沉积工艺制备了单层HfO2薄膜，并用氧等离子体对薄膜进行了离子后处理. 利用ZYGO Mark Ⅲ-GPI数字波面干涉仪对HfO2薄膜的残余应力进行了研究，讨论了不同沉积工艺和离子后处理对残余应力的影响. 实验结果表明：两种沉积工艺下沉积的薄膜皆为张应力，反应蒸发金属铪制备的薄膜应力较小；经过离子后处理，直接蒸发薄膜的应力明显减小，而反应蒸发薄膜的应力稍...
单层膜的反常色散研究
光学薄膜 反常色散 等效折射率
2009/9/17
利用等效折射率概念分析了SiO2单层膜反常色散出现的原因，并在1.1 m镀膜机上证明了理论分析的合理性.结果表明，理论分析与实验结果一致，沿薄膜厚度方向折射率的对称周期变化使薄膜的等效折射率变化在可见光波段与致密膜层的变化不一致，表现出反常色散的现象.膜厚方向折射率变化周期越大，等效折射率随波长增加的趋势就越大，薄膜表现出的反常色散特性越明显.沿膜厚方向折射率变化幅度的对色散特性影响次之.
光学薄膜的椭圆偏振模型分析与数据处理
光学薄膜 椭圆偏振测量 薄膜参数
2009/9/17
椭圆偏振测量是一种通过分析偏振光在待测样品表面反射前后的偏振态的改变来获得薄膜材料的光学常数（折射率n、消光系数k）和薄膜厚度（d）的高精度、非接触测量方法。本文通过对光学薄膜的椭偏光谱分析研究，探讨了光学薄膜系统的模型（结构模型和色散模型）建立方法，并应用模拟退火算法（SA）来反演椭偏光谱测量数据。文中介绍了程序算法的建立与程序的编制，并对标准薄膜样品和自制的样品进行的测量和数据处理。比对实验结...