搜索结果: 106-120 共查到“知识库 光学元件加工”相关记录181条 . 查询时间(2.482 秒)
五角棱镜补偿法加工工艺研究
五角棱镜 光学平行差 误差补偿
2010/3/10
由于五角棱镜两B棱的投影夹角对第二光学平行差影响倍率较大且加工过程中无法测量该夹角，从而导致棱镜加工合格率较低。通过分析侧面垂直度误差及Δ45°对五角棱镜光学平行差的影响，提出一种新的五角棱镜加工工艺方法：利用最后一个加工面对前3个已加工面存在的角度误差进行一次性补偿，从而降低了对各加工面的加工误差要求。实践证明：该方法能够有效地提高五角棱镜加工的合格率和生产效率，减小加工难度，并能显著降低对加工...
薄镜面面形主动校正技术研究
主动校正 阻尼最小二乘法 Zernike多项式
2010/3/10
采用12个主动支撑点对口径400mm薄实验镜进行面形主动校正，使用Zygo干涉仪测量面形误差，主动支撑点的力促动器由位移促动器和力传感器组成。分别测量单个促动器的响应函数，由各促动器的响应函数组成刚度矩阵，然后用阻尼最小二乘法计算各支撑点的校正力。实验中分析主动支撑结构对各项Zernike形式像差的校正能力，并选择了7项像差进行校正。经过5次校正，使初始状态下1.16λ(λ=0.6328μm)RM...
有机电致蓝光器件激发YAG∶Ce荧光粉光谱特性研究
机电致蓝光器件 YAG∶Ce荧光粉 白光器件
2010/2/6
模拟无机大功率白光LED由蓝光芯片激发荧光粉形成白光的发光方式，基于有机电致蓝光器件激发黄色的YAG∶Ce荧光粉来实现全色器件。采用真空蒸镀法，制备了ITO/2T-NATA(30 nm)/AND∶TBPe(50 Wt%, 40 nm)/Alq3(100 nm)/LiF(1 nm)/Al(100 nm)的蓝光器件，然后在出光面用点胶机均匀涂覆一层不同厚度的黄色的YAG∶Ce荧光粉制备出了不同色坐标的...
折/衍混合LWIR凝视成像系统的杂散光分析
长波红外 衍射光学元件 杂散光
2009/12/13
本文对一折/衍混合长波红外(LWIR)凝视成像系统进行了杂散光分析，在此LWIR系统中，含有一个用金刚石车削技术制作的衍射光学元件(DOE)。本文中，对DOE的不同衍射级次、光学表面的多次反射、镜筒内壁的反射等主要杂散光源利用LightTools软件进行了分析，对6种二次反射的模拟结果表明，对归一化的光源，理想光路的像面辐照度为100 W/mm2，每种二次反射会给像面带来0.01W/mm2的辐照度...
液滴透镜在电场中的变形研究
微光学 液滴透镜 电场作用 非球面透镜
2009/11/30
利用电场作用操控液滴面形获得非球面液滴透镜,并实时检测其光学性能,利用紫外光固化技术使液滴透镜固化得到固体非球面透镜.实验测量了液滴透镜的面形并经过图像处理提取面形轮廓,经多项式拟合得出液滴透镜的面形表达式.比较了不同强度电场作用下的液滴透镜面形,计算了主曲率随电场的变化规律,讨论了液滴透镜在电场中的变形机制|根据透镜面形表达式,采用光线追迹法得出了液滴透镜的焦距随电场的变化规律,结合ZEMAX软...
环带抛光技术材料去除理论模型研究
环带抛光 材料去除 转速比 偏心距
2009/11/2
为了更加完善环带抛光技术并指导加工，根据Preston方程建立了材料去除量的理论模型。考虑到环带抛光技术中的诸影响因素，如抛光盘与工件之间的转速比、偏心距及压强分布等参数，建立材料去除量与各影响因素之间的相互关系的数学模型。理论分析和实验结果表明：材料的去除效率随转速比和偏心距增加而增大，转速比越接近于1时，磨削越均匀；工件露边时，工件露出部分材料的去除效率急剧下降。通过对该理论模型中的相关技术参...
单晶热释电探测器混合集成制造方法研究
各向异性导电膜 多传感器 混合集成 热释电探测器
2009/11/2
在比较几种探测器集成制造方法的基础上，提出采用各向异性导电膜作为电信号互联的手段，实现热释电探测器与信号处理电路的混合集成，从而演示了一种兼容性良好的集成化多传感器制造方法。对单晶钽酸锂热释电探测器采取机械研磨减薄获得其薄膜，利用3M的5552R各向异性导电膜，实现了探测器与信号读出电路的互联。对探测器的测试表明：机械研磨减薄获得的钽酸锂薄膜表现出与晶体接近的热释电特性，探测器表现出良好的绝热性质...
被动半刚性磨盘在平滑中频误差中的应用
光学加工 被动半刚性磨盘 应力分析
2009/10/26
介绍了一种去除中频误差的有效工具--被动半刚性磨盘。被动半刚性磨盘由刚性基底、变形层、薄板层以及抛光层组成。这种特殊的夹层式结构使磨盘在平滑过程中具有高通滤波特性，因而能够有效去除中频误差。基于弹性力学和滤波器理论，分析了被动半钢性磨盘的平滑机理，讨论了磨盘基本参数和误差频率之间的相互关系。以一块表面具有明显中频误差的抛物面镜为实验件，对被动半刚性磨盘的平滑能力进行验证，经过2个周期（共计75 m...
基于CFD的射流抛光喷射距离的分析和优化
光学加工 射流抛光 计算流体动力学
2009/10/15
分析了喷射距离对射流抛光效果的影响，基于计算流体动力学进行了喷射距离的分析和优化.通过构建射流抛光不同喷射距离的物理模型，采用能更好地处理流线弯曲程度较大的流动的RNG k-ε紊流模型应用于射流抛光的数学建模，使用SIMPLEC算法对射流模型进行数值计算，得到了不同模型的射流抛光冲击射流流场及工件壁面上的冲击压力、紊动强度、壁流速度分布.根据射流抛光对冲击射流特性的要求，比较和分析不同喷距模型的数...
基于非成像原理设计的太阳能聚光镜
非成像光学 边缘光线原理 SMS方法
2009/10/15
针对传统聚光系统聚光倍数较低并且需要复杂跟踪装置及机电控制的弊端，对能否实现静态大角度接收太阳光的光学聚光元件进行了研究和设计.利用非成像原理及边缘光线原理进行编程建模，设计了折射式及折反射式的太阳能聚光镜，可满足大角度的入射及出射范围.通过光学软件ZEMAX以不同入射角度进行模拟.模拟结果表明，大角度静态接收的聚光元件是可以实现的.
中小口径双非球面数控抛光技术研究
非球面 去除函数 面形精度
2009/9/28
针对口径Φ62mm双凸非球面透镜，进行了数控研磨和抛光技术研究。提出了规范性的加工工艺流程，实现了中小口径双非球面元件的高效、快速抛光。根据计算机控制光学表面成型技术，采用全口径抛光和小抛头修抛的两步抛光法，在抛光中对其面形误差进行多次反馈补偿，使被加工零件表面的面形精度逐步收敛。最终两面的面形精度均小于0.5μm，中心偏差小于0.01mm，满足了光学系统中对非球面元件的精度要求，并且在保证有较高...
凹球面涂布光刻胶均匀性研究
光刻胶 涂胶 凹球面
2009/9/22
通过对离心法在凹球面上涂布光刻胶过程进行分析，阐明了离心状态下光刻胶在凹球面基底上的流动机理，结合试验提出影响凹球面涂布光刻胶膜厚均匀性的主要因素有胶液粘度、旋涂速度、旋涂时间，列举了以上因素引起的各种现象，并进行了理论分析。引用凹球面旋涂光刻胶的膜厚公式，建立了膜厚与速度关系数学模型；利用流体力学原理解释了有限圆形空间中流体速度对膜层均匀性的影响，从而解决了大曲率凹球面上制备微细图形结构的关键工...
定量检验光学元件面形的数字刀口仪技术研究
刀口检验 面形误差 数字刀口仪
2009/9/22
在传统刀口仪的基础上，提出一种数字化刀口仪,利用该刀口仪可实现球面光学元件表面面形的定量检验。介绍数字刀口仪的组成、工作原理及测试过程等,并利用该刀口仪对一个半径为1000mm，口径为160mm的球面光学元件的面形进行了实际测量，给出了光学元件均方根值和峰谷值测量结果，最后对测量结果进行了讨论。
方形自聚焦透镜5×5阵列的成像特性
方形自聚焦透镜阵列 成像特性 多重像
2009/9/22
采用离子交换工艺和精密加工技术制作了方形自聚焦透镜5×5阵列，并对其成像特性进行研究。结果表明：方形自聚焦透镜阵列相对于圆形孔径阵列而言，能有效增大填充系数，提高受光面积，其多重像和综合像的像质均匀,成像质量好。分析了导致多重像偏离和综合像变形的原因，并给出解决这一问题的关键技术。
非球面碳化硅反射镜的加工与检测
非球面 碳化硅反射镜 计算机控制光学表面成型
2009/9/22
为了获得高精度非球面碳化硅(SiC)反射镜，对非球面碳化硅反射镜基底以及改性后碳化硅反射镜表面的加工与检测技术进行了研究。介绍了非球面计算机控制光学表面成型（CCOS）技术及FSGJ-2非球面数控加工设备。采用轮廓检测法和零位补偿干涉检测法分别对碳化硅反射镜研磨和抛光阶段的面形精度进行了检测，并采用零位补偿干涉检测法及表面粗糙度测量仪对最终加工完毕的碳化硅反射镜的面形精度和表面粗糙度进行检测。测量...