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摘要根据金刚石厚膜的实际应用要求，建立了EA-CVD(Electron Assisted Chemical Vapor Deposition)方法，制备出直径为80mm，膜厚为1mm以上的大尺寸高品质的均匀金刚石厚膜，其膜厚不均匀性小于5%，热导率不均匀性小于10%，膜片中部和边缘磨耗比基本相同，大约在1.5×105左右。同时研究了制备参数对膜的品质和膜厚均匀性的影响。结果表明：甲烷浓度、工作气压...
