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重庆理工大学材料科学与工程学院材料实验技术基础课件 直流磁控溅射镀膜。
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近日,中国科学技术大学工程科学学院吴恒安教授、王奉超副研究员,与诺贝尔物理奖得主、英国曼彻斯特大学安德烈·海姆教授课题组及荷兰内梅亨大学研究人员合作,在石墨烯类膜材料质子输运特性研究方面取得了突破性进展,发现石墨烯以及氮化硼等具有单原子层厚度的二维纳米材料可作为良好的质子传导膜。该成果于2014年11月26日在线发表在Nature上,吴恒安教授是该文共同通讯作者。
利用多靶磁控溅射技术在SiO2/Si基体上沉积Cu/Cu(Ge, Zr)多层薄膜,采用四探针仪(FPPT), X射线衍射仪(XRD), 高分辨透射电镜(HRTEM),X射线光电子能谱(XPS)和原位纳米电子束探针能谱(EDS)表征多层薄膜退火前后电阻率、微观结构和界面成分的演变及行为.结果表明, 在低温退火阶段(<200℃), Cu(Ge, Zr)膜层中Ge与Cu选择性反应形成低阻Cu3Ge相,有...
通过高能电子束辐照接枝丙烯酸制备了亲水改性 PVDF 中空纤维膜,根据纯水通量和对牛血清白蛋白溶液、 腐植酸溶液、 酵母菌溶液的渗透性能研究 PVDF 膜表面亲水改性对抗污染的影响. 结果表明: 辐照接枝改性使 PVDF 中空纤维膜的纯水通量提高了 1 倍; 改性膜对腐植酸溶液和酵母菌溶液的渗透通量下降率较原膜分别降低 58%和 37%; 碱性条件下, 改性膜对牛血清白蛋白溶液的渗透通量下降率较原...
超滤膜为分隔膜的双室微生物燃料电池的产电特性
微生物燃料电池(MFC ) 超滤膜 内阻 功率密度
2012/12/17
针对分隔膜对微生物燃料电池产电特性的影响问题, 采用截留分子质量 (MWCO ) 分别为 4 ku、 10 ku、 30 ku和 100 ku 的 4 种不同超滤膜 (UF ) 作为分隔膜材料进行了基础研究. 通过 SEM 观察, 各反应器阳极表面附着形态相同的产电微生物. 阶段运行结果表明: 4 种 UF 膜中库伦效率最大为 4.15%, 功率密度最大为 113.3mW/m3, 内阻随截留分子质...
以聚醚砜( PES ) 为膜基质材料, 以粒径分布较均匀的 4A 分子筛为功能颗粒, 采用相转化法制备出了对 Cu2+具有较大吸附容量的膜吸附剂; 研究了 4A 分子筛填充 PES 膜吸附剂对 Cu2+的吸附与脱附性能; 探讨了 4A分子筛填充量、 离子强度、 温度、 pH、 初始浓度等因素对其吸附性能的影响. 结果表明: 膜吸附剂的吸附容量随着 4A 分子筛填充量的增加而增大,当 4A 分子筛质...
在细菌浸出黄铜矿的过程中, 浸出速率缓慢的原因是矿物表面会形成一层阻碍矿物与浸出液之间物质交换的钝化膜, 这层膜的组成会随着浸出的进行而变化. 利用SEM, EDS, XRD和XPS等对细菌浸出黄铜矿的过程中, 矿物表面的形貌、组成及物相变化进行了研究. 结果表明, 黄铜矿在细菌浸出过程中依次形成了缺铁铜硫化物 Cu1-xFe1-ySz(x
考察了CoO/MgO 固溶体催化剂在BaCo0.7Fe0.2Nb0.1O3−σ(BCFNO)透氧膜反应器内, 对焦炉煤气(coke oven gas, COG)中甲烷部分氧化重整(partial oxidation of methane, POM)的催化性能. 首先, 研究了CoO/MgO固溶体催化剂合成的工艺条件; 然后, 考察了焦炉煤气流量和空气流量对重整性能的影响, 并对比分析了...
在TC4钛合金上制备微弧氧化不同时间的氧化膜,然后进行化学镀N i-P镀层,利用SEM、涂层附着力自动划痕仪和热震试验,研究不同微弧氧化膜结构对钛合金化学镀N i-P镀层结合性能的影响.结果表明:随着微弧氧化时间的增加,微弧氧化膜表面的粗糙度增大,表面微孔逐渐变大,孔口先变成敞开形式然后慢慢缩合,最后变成凹槽状.微弧氧化时间由3min增加至15min,化学镀N i-P镀层与微弧氧化膜的结合性能逐渐...
水化学和腐蚀温度对锆合金氧化膜中压应力的影响
锆合金 耐腐蚀性能 氧化膜 压应力
2009/12/5
不同水化学条件下,对Zr-4和N18管状样品进行腐蚀实验,然后用氧化膜卷曲法测量腐蚀样品氧化膜中的压应力,研究腐蚀温度、水化学对氧化膜中压应力随厚度变化的影响规律.实验结果表明,Zr-4和N18样品氧化膜中的压应力均按360 ℃去离子水>400 ℃过热蒸汽>360 ℃ LiOH水溶液的顺序依次减小.在360 ℃ LiOH水溶液中腐蚀时,氧化膜中的压应力最低,这与Li+和OH-会渗入氧化膜,降低氧化...
采用一种新型线性离子束PVD技术制备出大面积类金刚石薄膜(DLC膜), 研究了衬底负偏压对薄膜微结构和物性的影响. 结果表明: 制备出的类金刚石薄膜在300 mm× 100 mm 范围内纵向厚度均方差约10--12 nm, 横向薄膜厚度均方差约2--4 nm. 随着衬底偏压的提高, 薄膜中sp3键的含量先增加后减小, 在衬底偏压为-100 V时sp$^{3}$键的含量最大; DLC膜的残余应力、硬...
脉冲电压幅值对等离子体化学气相沉积TiN薄膜膜基结合行为的影响
PCVD 膜基结合力 压入法 氮化钛
2008/11/11
用工业型脉冲等离子体化学(PCVD)设备. 在高速钢(W18Cr4V)和钴基硬质合金SC30基材表面沉积了TiN薄膜, 用扫描电镜(SEM)和连续加载压入仪研究了脉冲电压幅值对膜基结合行为的影响, 结果表明:随脉冲电压在550-750V之间逐渐增大, TiN晶粒增大, 膜层脆性增加, 沉积速率提高. 但膜层结合力下降:在650V以下膜基界面有一伪扩散层出现, 通过650V后伪散层消失, 这是改善膜...
纳米Ti膜形成过程的扫描隧道显微镜观察
磁控溅射 纳米Ti膜 扫描隧道显微镜(STM)
2008/10/23
用磁控溅射方法在聚合物薄膜基体上制备出不同厚度的纳米Ti膜.扫描隧道显微镜(STM)的观察结果表明,初期膜是由直径小于2 nm的形核粒子和粒子团聚体组成.粒子沉积呈岛状生长形成纳米晶粒结构.随薄膜厚度增加,平均晶粒尺寸增加,形成大尺寸晶粒的连续薄膜.分析和讨论了薄膜生长过程的结构特征及溅射条件对薄膜结构的影响.
插入Bi层对NiFe/Cu/NiFe/FeMn自旋阀多层膜交换耦合的影响
层间偏聚 交换耦合场 表面活化原子Bi XPS
2008/9/25
对于Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜,Cu原子偏聚到NiFe/FeMn界面将导致自旋阀多层膜中NiFe/FeMn的交换耦合场Hex下降.然而,少量的表面活化原子Bi被沉积到Cu层和被钉扎NiFe层之间,Cu原子在NiFe/FeMn界面的偏聚可以被抑制;而且,更重要的是Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中的交换耦合场Hex可以被有效地提高.