搜索结果: 31-45 共查到“材料表面与界面 膜”相关记录54条 . 查询时间(0.274 秒)
表面部分成膜金属阳极溶解模型及其振荡与混沌行为
阳极溶解 电化学振荡 化学混沌
2008/10/20
提出了金属表面生成MOH和MO两种膜的阳极溶解过程反应模型,导出了溶解反应动力学方程.对溶解过程中反应物浓度和表面覆盖度等系统状态变量的不动点进行了线性稳定性的分析,研究了不动点的稳定性.对模型的状态变量全局运动状态和行为进行了计算机模拟,研究了其中的振荡行为,分析了反应参数对动力学行为的影响.结果表明:模型中存在膜的生成与溶解导致溶解过程的复杂化,该动力学模型呈现十分丰富的振荡和混沌行为,反应速...
界面散射对Ni80Co20/M（M-Co,Cr,Ag）多层膜各向异性磁电阻的影响
多层膜 各向异性磁电阻 界面效应
2008/10/20
用磁控溅射方法制备了Ni80Co20/M(M=Co,Cr,Ag)多层膜样品系列,Co,Cr,Ag杂质层的标称厚度为0.1 nm,研究了界面散射对多层膜的磁及输运性质的影响.零场电阻率ρ的测量结果表明,对含Cr样品,p随杂质层间距L的依赖关系能较好的用Fuchs-Sondheimer(F-S)理论描述.而对含Co和Ag样品,ρ随L的依赖关系在L小于15 nm时开始偏离F-S理论.磁电阻测量表明,含C...
CrTiAlCN多元多层梯度膜的制备及其结构
CrTiAlCN薄膜 磁控溅射 离子束辅助
2008/8/30
采用中频反应磁控溅射、离子束辅助方法沉积CrTiAlCN多元硬质薄膜，利用扫描电镜、俄歇电子谱、透射电镜及X射线衍射等技术对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究。结果表明：沉积制备的膜层为多层梯度过渡结构，成分深度分布及相结构分析证实，所制备的多元多层梯度膜与所设计的基体/Cr/CrN/CrTiAlN/ CrTiAlCN结构相吻合；在梯度过渡中，不同层之间界面体现为渐变过渡过程；沉积制备的多元多层...
描述了工作在共振和次共振模式下的低频机械波谱仪的基本原理．主要介绍了研究金属衬底上薄膜的物理性质的两种方法：第一种方法，用于测量沉积在钼丝上的TiN／Ti(C，N)多层膜的切变模量和内耗；第二种方法，用于探测钢片表面微量油膜的存在．尽管这两种技术有着各自不同的应用目的及对象，但它们均源自能够导致机械能损耗的表面效应.
Ag对β-NiAl 的高温氧化膜Al2O3形貌的影响
β-NiAl Ag 高温氧化 Al2O3相变
2008/8/4
利用TGA, SEM/EDS研究Ag含量对β-NiAl合金高温氧化时生成Al2O3膜表面形貌的影响及添加1%Ag（原子分数）对1000 oC氧化动力学的影响。研究结果表明， β-NiAl合金的氧化动力学由两段抛物线组成，分别受亚稳Al2O3和稳态α-Al2O3的生长控制。NiAl-1Ag合金的氧化动力学由三段抛物线组成，分别受γ-Al2O3，θ-Al2O3和α-Al2O3的生长控制。1000 oC...
采用直流磁控溅射方法制备FePt/Cu多层膜, 再经不同温度下真空热处理得到有序L10-(FePt)100-xCux薄膜. 结果表明, Cu的添加可以降低FePt薄膜有序化温度. [FePt(4 nm)/Cu(0.2 nm)]10多层膜在350 ℃热处理1 h后,有序度增至0.6, 矫顽力达到421 kA/m. 对插入极薄Cu层促进有序化在较低的温度下进行的热力学和动力学因素进行了讨论.
Ti离子注入对Al阳极氧化膜层阻抗性质的影响
Al 阳极氧化 离子注入
2008/8/1
对L3纯Al进行了Ti离子注入与阳极氧化, 用X射线光电子能谱仪(XPS)分析了阳极氧化膜层的表面成分, 利用电化学阻抗谱(EIS)研究了阳极氧化膜的腐蚀行为. 结果表明, Ti离子以TiO2的形式存在于Al阳极氧化膜层中, Ti离子的注入并不影响Al阳极氧化膜的非晶结构. Ti离子注入可以使Al阳极氧化膜在酸性和碱性的NaCl溶液中的阻抗参数R明显提高, 参数C降低.
甲烷浓度对等离子喷射金刚石厚膜生长稳定性的影响
金刚石厚膜 生长稳定性 甲烷浓度
2008/8/1
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜。实验中观察到在金刚石厚膜生长过程中出现了形貌不稳定性，其程度随甲烷浓度的不同而变化。从理论和实验两个方面对这种不稳定性进行了讨论, 认为直流电弧等离子体的高温造成碳源高饱和度是生长不稳定性的根本原因。 实验结果表明，在沉积金刚石厚膜时，为了稳定地获得高质量的厚膜，甲烷浓度不宜过高。
低能离子束辅照对溅射镀TiN膜生长的影响
TiN薄膜 物理气相沉积(PVD) 择优取向
2008/8/1
用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜, 研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响。结果表明, 高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化。即使沉积温度低于150℃, 当入射基板离子数和Ti原子数的比值J/JTi≥4.7时, 沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长, 薄膜微观结构致密, 硬度达到2...
铜表面2-芳基苯并咪唑铜配合物膜结构及其热稳定性研究
2007/12/25
测定了6种2-芳基苯并咪唑化合物在铜表面所成膜的XPS谱,并对该膜的模拟化合物进行了热失重、差热分析测试,对膜的结构和耐热性能进行了研究.结果表明在铜表面苯并咪唑化合物与铜发生了配位化学反应并进而形成了铜表面膜,该铜表面膜的致密程度在200 ℃以下随着热处理温度的提高而提高;2位取代基的改变对芳基苯并咪唑-铜配合物的热稳定性有影响.
铝合金微弧氧化表面陶瓷膜的制备
2007/12/25
微弧氧化陶瓷膜具有良好的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘性能,研究了在铝合金表面用微弧氧化方法沉积陶瓷层的工艺.采用正交设计法优化了试验方案,运用综合平衡法对每个方案制备的陶瓷层的厚度和硬度进行了分析,确定了各因素对陶瓷层影响的程度,并优化了电解液配方,确定了最佳工艺条件.同时对最佳工艺制备的陶瓷做了XRD、SEM和耐磨性测试,结果表明,最佳电解液配方为:硼酸10 g/L,钨酸钠2 g/L,氢氧化...
铝表面制备装饰膜的等离子电解氧化方法
2007/12/25
对铝表面制备装饰膜的等离子电解氧化方法进行了研究.结果表明:以铝酸钠、柠檬酸三铵、氟化钠组成的电解液,加入或不加入添加剂,通过等离子电解氧化处理,在铝表面可获得不同颜色的陶瓷膜.该溶液成分简单、稳定性好.其工作电流密度为7 A/dm2,处理时间10 min.
不锈钢表面电化学合成导电聚苯胺膜的研究
2007/12/25
在酸性电解液中分别用电化学恒电位法和恒电流法在不锈钢基材上成功制备了导电聚苯胺膜,该膜在空气中呈绿色,稳定、完整致密,为结晶态结构,与基体的结合情况较好.在氯化钠溶液中测定试样的阳极极化曲线后发现,表面覆盖聚苯胺膜后的不锈钢,其点蚀电位比无膜时升高1 000mV左右,表明导电聚苯胺膜可显著提高不锈钢的抗点蚀性能,具有良好的点腐蚀防护效果.
咪唑化合物在铜表面的成膜过程与机理
2007/12/25
测定了几种咪唑化合物与铜(Ⅱ)所成模拟配合物的吸光度,并由此得到了模拟配合物的组成及结构;通过XPS测定了咪唑化合物在铜表面所成膜的结构,结合模拟配合物的结构得出了咪唑化合物在铜表面的成膜过程及机理.