搜索结果: 61-75 共查到“知识库 薄膜光学及技术”相关记录295条 . 查询时间(3.699 秒)
结合莫尔条纹、傅里叶变换和数字相移技术实现了对单幅干涉条纹图的高精度相位计算和波面重建.首先,用计算机生成与被处理干涉条纹频率相近的数字相移条纹图,与实际干涉条纹图叠加得到相移莫尔条纹图;然后,利用傅里叶变换、双频滤波、傅里叶反变换和相移技术得到干涉条纹图的相位数据;最后利用波面拟合技术重构原干涉条纹图对应的波面形状.研究结果表明,该技术不仅消除了干涉仪硬件相移产生的非线性误差和滤波时的频谱移中误...
依据光学薄膜理论,建立膜系优化评价函数,利用软件优化膜系,实现0°~75°入射宽光谱P光分光膜的设计.选择H4和MgF2作为高低折射率材料,采用电子束及离子辅助沉积技术,来制备该分光膜.通过对膜层厚度误差分析,用晶控片单独控制相对敏感度较高的膜层,解决了薄膜制备过程中不能精确控制膜厚误差的问题.运用逆向分析法对实验测试结果进行模拟分析,通过改变膜厚修正因子,使P光透射光谱曲线更加平滑.光谱测试表明...
以用于线性菲涅尔式聚光系统的CPC为研究对象,在Matlab环境下建立了数学模型。利用光线跟踪法对不同间隙、不同最大接受半角和不同截取比的CPC汇聚率进行仿真研究,结果表明用于线性菲涅尔式聚光系统的CPC对不同入射角光线具有特定的汇聚率,随着入射角的变化会出现极小值,极小值所对应的入射角仅与CPC最大接收半角相关,与截取比和间隙无关。仿真计算了间隙为50 mm、最大接受半角为45°、截取比为0.7...
薄膜型金属网栅的电磁屏蔽特性
透明导电膜 金属网栅 电磁屏蔽 方块电阻
2014/5/19
为寻求准确评估薄膜型金属网栅电磁屏蔽效能的方法,探索了薄膜型金属网栅在某频段可达到的电磁屏蔽效能。首先,分析了金属网栅膜光电特性常用的计算公式,指出电特性公式中材料无限导电的假定条件与客观事实不符,故其无法准确预估薄膜型金属网栅的电磁屏蔽效能。然后,根据屏蔽效能受感应电压和电阻比控制的理论,借鉴连续导电膜用方块电阻计算屏蔽效能的方法,提出了预估薄膜型金属网栅屏蔽效能的方法并给出了具体步骤。最后,采...
对Si-SiO2基底薄膜系统进行数值实验,将SiO2薄膜的能损函数与透过率光谱和反射椭圆偏振光谱进行对比,讨论了在红外透过率光谱和反射椭偏光谱中激发的SiO2薄膜TO和LO振动模式.在正入射的红外透过率光谱中,仅能发现SiO2薄膜的TO振动模式;在倾斜入射的s偏振透过率光谱中没有激发的LO模式;在倾斜入射的p偏振透过率光谱中,当入射角小于60°时,三个TO振动模式全部被激发;当入射角大于60°时,...
薄膜型低燃温红外诱饵的辐射性能研究
红外诱饵 薄膜 低燃温 辐射强度
2014/2/5
以传统镁/聚四氟乙烯配方的红外诱饵剂为基础,以燃烧时间、燃烧温度和红外辐射强度作为考核参数,对以红磷和氧化铜作为功能添加剂的薄膜型低燃温红外诱饵剂进行了实验研究。以镁、聚四氟乙烯、红磷和氧化铜的导热性系数作为参量,综合比较了不同配方对反应速度的影响,以及对燃烧温度、辐射强度的影响。研究结果显示,以红磷和氧化铜为功能添加剂可以改善低火焰温度条件下的燃烧稳定性。当红磷含量为25%,镁粉含量为25%,氧...
环带式磁流变抛光装置设计
磁流变抛光 面接触 自动抛光装置 光学元件
2014/1/30
针对“点接触”磁流变抛光技术存在对机床机械结构精度要求高，需对被抛光表面进行预抛光处理和抛 光效率低等问题，提出一种采用环带式磁流变抛光技术实现平面和球面光学零件抛光的方法。该方法基于“面接触” 抛光思想，采用闭合直流环带旋转磁场实现对工件抛光的原理，设计出了平面和球面光学元件自动抛光装置。分析 了硬件控制和软件设计的具体结构，并采用制作出的装置进行相应的工艺实验。实验结果表明，该方法能够实现平 ...
采用正交试验设计方法，系统研究了离子束溅射HfO2、Ta2O5 和SiO2 薄膜的沉积速率与工艺参数（基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量）之间的关联性。采用正交表L9（34）设计了9 组实验，采用时间监控的离子束溅射沉积方法，分别制备HfO2、Ta2O5 和SiO2 薄膜，并对三种薄膜的27 个样品采用椭圆偏振法测量并计算物理厚度，继而获得沉积速率。实验结果表明：对Ta2O5 和SiO2 薄膜...
高重复频率DPL激光对光学薄膜元件损伤实验研究
光学薄膜 重频DPL 激光 驻波场修正 损伤机理
2013/11/4
光学薄膜的高重频激光损伤特性一直是激光薄膜研究者的重点。为了分析光学薄膜在高重频激光辐照下的损伤特性，探究其损伤机理，文中从实验出发，研究了重复频率10 kHz DPL 激光对光学薄膜元件的损伤特性。结果表明，修正膜层内的驻波场分布，降低膜层内高折射材料中的驻波场峰值可以提高高重频激光损伤阈值；从激光损伤形貌与辐照激光功率的关系上看，在高重频激光辐照下光学薄膜元件的损伤实质上是热效应和场效应共同作...
预处理效应对1 064 nm反射膜本征损伤性能的影响
HfO2/SiO2高反射薄膜 激光预处理 本征损伤 损伤阈值 1-on-1
2013/10/12
激光预处理技术能够有效提升光学元件的激光损伤阈值。以1064nm 波长作用下的HfO2/SiO2高反射薄膜为研究对象，研究了单一能量密度梯度和多能量密度梯度的N-on-l、R-on-l和光栅扫描激光预处理技术对薄膜本征损伤性能的影响，并采用1-on-1测量方法对不同预处理技术的预处理效果进行了对比分析。实验结果表明：1-on-1测量曲线中的损伤几率数据、拟合直线参数以及损伤阈值的相对不确定度能够比...
提出了一种基于电光单边带调制的前馈线宽压缩系统，该系统主要包括相位噪声检测和单边带调制两大部分。相位噪声检测部分输出一个与相位误差成比例的误差电压信号，电压信号通过线性调频作用于单边带强度调制器，实现对激光信号的调制。单边带调制器采用马赫增德尔强度调制器的结构，相当于内嵌四个相位调制器，通过相位调制达到强度调制的目的，最终得到线宽压缩的激光信号。实验针对波长为1552.52nm、功率10mW 的分...
含活性剂超薄液膜演化过程的稳定性研究
超薄液膜 分离压 表面活性剂 稳定性
2013/9/23
针对固体基底上厚度小于100 nm的含活性剂超薄液膜演化过程, 基于润滑理论推导出包含分离压影响的液膜厚度和活性剂浓度的演化方程, 采用正则模态法导出了描述液膜线性稳定性的特征方程, 分析了多个特征参数对线性稳定性的影响, 数值模拟了液膜厚度和活性剂浓度演化历程, 对比了模拟所得非线性结果与线性分析预测结果的一致性.结果表明:范德华力具有促进扰动增长的作用, 较强的玻恩斥力促使扰动衰减, 使液膜趋...
基于ZnO压电薄膜的柔性声表面波器件
柔性衬底 ZnO薄膜 压电薄膜 声表面波器件
2013/9/20
提出并制备了基于聚酰亚胺柔性衬底的声表面波(SAW)器件。在柔性聚酰亚胺衬底上低温反应磁控溅射沉积了ZnO压电薄膜;采用X射线衍射仪,扫描电子显微镜,原子力显微镜等设备对ZnO薄膜进行了检测,结果表明:ZnO薄膜晶粒呈柱状生长并且(002)择优取向,膜粗糙度小于9 nm,适合制作压电器件。在柔性衬底上制备了基于ZnO压电薄膜的SAW器件,该器件表现出良好的谐振性能。采用矢量网络分析仪检测器件的传输...
尖晶石Mn-Co-Ni-O三元氧化物具有优良的负温度系数（NTC），是一种制作热敏红外探测器较为理想的材料。采用射频磁控溅射法在非晶Al2O3衬底上制备了Mn1.56Co0.96Ni0.48O4（MCNO）多晶薄膜。使用能量色散X射线谱（EDS）对薄膜中金属元素组分进行了测量，分析得出薄膜中金属元素组分与靶材中的组分偏离在5%以内。对经过750℃空气中退火后的薄膜结构、电学和光学性质也进行了研究。...