搜索结果: 121-135 共查到“知识库 光学元件加工”相关记录181条 . 查询时间(2.338 秒)
高精度角度加工技术研究
激光陀螺 光学元件加工 光胶垫板
2009/9/22
激光陀螺不仅对合光棱镜角度精度有极高的要求，而且对角度和尺寸的一致性有严格的限制。为了加工这种高精度角度光学元件，提出通过手修工装母体复制出成盘加工工装，再复制出光学零件的加工方法，并分析了测角仪的测量精度、面形之间的匹配误差和平行的测量误差所引入的角度加工误差情况，提高了面形加工的平面度，避免了局部不规则现象，控制了温差对面形变化的影响。另外通过降低平行测量的误差以及减小闭合角度之间的叠加误差等...
曲面和平面菲涅尔透镜的像差比较
曲面菲涅尔透镜 平面菲涅尔透镜 彗差
2009/9/22
通过一个大尺寸菲涅尔透镜的设计，比较了曲面菲涅尔透镜和平面菲涅尔透镜在光学像差方面的差异。从应用角度看，菲涅尔透镜设计属于准直系统，一般采用平面结构，但由于其成像要求的特殊性，通过运用P-W方法进行分析和比较，结果表明：曲面的设计较之于平面更具优势，并在ZEMAX中分别对2种菲涅尔透镜进行建模，验证了结果的正确性。但这不表明曲面菲涅尔透镜在像差方面一定比平面菲涅尔透镜更具优势，它还与实际应用场合有...
三棱镜实验中入射点问题的讨论
入射点 折射率 棱镜
2009/9/22
利用几何光学原理和计算机进行模拟，对棱镜出射光线与入射点的关系进行了研究，并由MATLAB得到了入射点与棱镜顶角、材料折射率及棱镜底面边长关系的曲线图。实验结果表明，在测量三棱镜折射率及使用棱镜光谱仪时，对入射光线的入射点是有一定要求的。
增厚-光胶法控制超薄、变形平面零件的加工工艺研究
增厚-光胶法 超薄光学元件 平面变形
2009/9/21
以一直径为27mm，N=2,ΔN=0.5,B≤Ⅱ和θ≤2′的K9平面零件加工为例，详细介绍了增厚-光胶法控制超薄、变形平面的加工工艺流程及采取的关键工艺措施，并对加工过程中的参数进行了分析和总结，最后确定了保证该零件各项指标的量化参数。实践证明：该方法能够保证零件高精度面形及平行差要求，解决了超薄、变形零件在长期加工中出现的合格率低、返工率高现象。该方法在保证零件精度的同时，大大提高了生产效率，降...
卫星角反射器有效衍射区域的研究
角反射器 有效衍射区域 远场衍射光强
2009/9/15
本文基于角反射器的几何结构模型，采用矢量形式的折反射定律，推导了在不同入射条件下有效衍射区域的数学表达式.通过数值模拟的方法分析了有效衍射区域的变化规律，以及该规律对远场衍射光强空间分布的影响.结果表明，随着光束入射角的增加，有效衍射区域逐渐减小，进而导致角反射器衍射强度发散程度增加.光束方位角的引入不会改变有效衍射区域的形状和衍射强度的总能量，而只会使其各自分布旋转方位角的大小.在不考虑大气效应...
基于表面等离子体激元效应的可调制滤波器
表面等离子体激元 调制滤波器 电介质 纳米孔阵列
2009/9/13
针对常用的光学滤波器滤波波长不可变的特点，提出一种利用表面等离子体激元效应实现可调制滤波的方法。该方法根据金属邻近电介质的介电常数发生改变时，金属与入射光波的表面等离子体激元耦合共振模式发生改变，以此实现滤波波长调制。在加工有亚波长纳米孔阵列的Au薄膜上制作了一可见光滤波器，实验中采用空气、酒精和油作为介质对器件进行调制。结果表明：相对于常用的光学滤波器，该器件由于可以方便地改变临近介质的介电常数...
衍射光学元件设计参数对束匀滑衍射效率的影响
衍射光学元件 束匀滑 衍射效率
2009/9/9
经过理论推导，分析了320 mm口径衍射光学元件在束匀滑实验中光强分布出现高级次衍射斑和元件实际衍射效率变低的原因，模拟计算得到了接近实验的光强分布。模拟分析发现:通过调整设计参数，如适当增加抽样点数，使设计时焦斑主瓣占输出计算窗口的比例减小至0.2以下，可以大大降低由于高级次衍射斑造成的衍射效率损失，控制在2%以内，使台阶分布式相位片实际衍射效率得到提高，在对口径为70及320 mm的台阶分布式...
多层衍射光学元件设计原理与衍射效率的研究
衍射光学 多层衍射光学元件 衍射效率 光学设计
2009/8/27
叙述了多层衍射光学元件的设计原理.通过对多层衍射光学元件结构、位相延迟表达式、材料选择匹配的研究，使得优化最大光栅高度后的多层衍射光学元件能够实现大幅度提高宽光谱范围内衍射效率的作用.其衍射效率在从g谱线（435.834 3 nm）到C谱线（656.272 5 nm）的可见光范围内的任何波长上的理论衍射效率均在99％以上，带宽积分平均衍射效率为99.7％，能够满足高质量成像光学系统应用的需要，并利...
减少光学元件亚表面缺陷的方法研究
化学刻蚀 Marangoni界面效应 亚表面缺陷
2009/8/27
针对强激光光学元件的应用要求，对光学材料在研磨和抛光过程中形成的亚表面缺陷进行了分析，并借鉴小工具数控抛光和Marangoni界面效应，提出采用数控化学刻蚀技术来实现光学表面面形和微结构形貌的高准确度加工.通过实验对亚表面缺陷的分布位置和特性进行了分析，实验验证了在静止和移动条件下Marangoni界面效应的存在.对材料的定量去除进行了实验，提出了亚表面缺陷的去除方法.
254nm低通滤光片的研制
紫外低通滤光片 考夫曼离子源 电子束蒸发 材料吸收
2009/8/26
根据紫外光学系统的设计要求，在K9基底上研制了254nm高反射率、可见光谱区高透过率的低通滤光片。根据膜系设计理论，通过针法优化，获得了干涉型低通滤光片的膜系；对电子束蒸镀HfO2和MgF2材料进行了研究，解决了材料喷溅的问题，减少了薄膜的吸收；采用考夫曼离子源，通过优化工艺参数，提高膜层致密性，解决了光谱曲线漂移的问题，改善了成膜质量。
大口径薄型光学镜面支撑方案的优化设计
薄型镜面 支撑 优化设计
2009/8/24
针对薄型光学镜面支撑过程中的主动施力过程，建立了一个1维分析模型。利用该模型，采用有限元法对一个口径为300 mm、直径与厚度比为40的薄型光学镜面，利用离散支撑方案，针对4种镜面变形进行了计算，得到了实现变形要求所需施加力的大小。使用零阶优化方法中的子问题逼近法对施力位置、施力大小进行了具体优化。分析结果显示：优化后的镜面变形与目标形状更接近，最大平均差值比优化前减小了58%。
光学元件亚表面缺陷偏振双向反射分布函数
亚表面缺陷 光散射 偏振双向反射分布函数
2009/8/24
利用琼斯散射矩阵,借助右手正交基组来表示入射场和散射场，推导出光学元件亚表面缺陷或微粒在不同偏振状态下的双向反射分布函数的表达式。给出了亚表面缺陷在不同入射角条件下，不同偏振状态下的双向反射分布函数与散射方位角之间的关系，以及不同入射角下p偏振入射产生的p偏振双向反射分布函数的3维散射图。结果表明:p偏振入射产生的p偏振双向反射分布函数强烈依赖于入射角、散射角和方位角，且随着入射角的增加，其最小值...
激光照射有限尺寸高反射光学元件的温度场
温度场 光学薄膜样品 热对流
2009/8/19
采用格林函数法，考虑径向边界条件和对流热损失，理论上求解了有限尺寸高反射光学元件在激光作用下的热传导方程，获得了样品内的温度场分布。为验证所求解，模拟计算了不同光斑形状和光斑尺寸激光束照射下样品的温升曲线,并与有限元数值计算结果进行了比较，获得了较好的一致性,讨论了此精确物理模型中不同热交换系数对激光束照射下光学薄膜样品温升的影响。结果表明:热交换系数越大,样品内的温度分布越趋于平衡。
超光滑基片等离子体表面处理研究
超光滑表面 等离子体 表面处理
2009/8/14
通过对射频功率、反应室压强和处理时间等参量进行实验,系统研究了等离子体处理对基片表面状态的影响.结果表明,等离子体处理可以溅射去除加工变质层,降低表面粗糙度,提高基片表面洁净度和表面能.优化后的参量证实,经等离子处理的基片比未经等离子体处理的基片镀膜后损耗平均降低34.2 ppm,并且显示出良好的一致性.