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搜索结果: 91-105 共查到知识库 光电子材料相关记录383条 . 查询时间(2.633 秒)
超光滑加工通常是在保证光学元件面型精度不劣化前提下提升其中高频精度.均匀去除是保证超光滑加工过程中光学元件面型精度不劣化的重要途径.本文以四轴三联动小磨头超光滑加工机床为基础,结合Preston假设,研究了四轴三联动超光滑加工机床对光学元件的材料去除特性,发现当机床取某些特定的参量时,通过等值的驻留时间规划即可实现光学元件表面材料的均匀去除.最后,对这些特定的参量进行了对比实验.实验结果验证了理论...
在三维拓扑绝缘体表面上外加铁磁条形成的磁势垒量子阱,通过控制入射电子能量,使得入射电子波限制在势阱中传播,并由波函数的连续性求得磁诱导三维拓扑绝缘体波导的色散方程.由于此方程是超越方程,不能解析求解,因此本文采用图解法求解色散方程的解.研究表明:在入射电子能量大于磁势垒和小于磁势垒的情况下,都能够形成波导;当入射电子的能量大于磁矢势时,波导能够支持基模,而且模式阶数也依次递增;而当入射电子能量小于...
为了降低采用光子相关光谱法进行纳米颗粒测量时噪音对颗粒粒径反演结果的影响,提出了一种基于加权非负最小二乘法的光子相关光谱纳米颗粒粒径计算方法.该方法以光子相关光谱自身作为权值,推导出反演算法的离散模型,避免了接近零点的测量数据波动对测量结果的影响.利用光子相关光谱纳米检测实验平台对90 nm、190 nm及混合的乳胶颗粒进行实验研究,并与传统非负最小二乘法反演结果进行了对比.60 s测量时间的30...
研究了多晶硅片在反应离子刻蚀制绒后与扩散工艺的匹配性.在相同的扩散工艺下,反应离子刻蚀制绒后硅片的方块电阻值比酸制绒工艺硅片的方块电阻值高3~11 Ω/□,而且其方块电阻不均匀度值约为普通酸制绒工艺硅片的方块电阻不均匀度值的80% . 测试了反应离子刻蚀制绒后多晶硅太阳能电池的外量子效率,其外量子效率在340~1 000 nm波段范围与酸制绒多晶硅太阳能电池相比提高了约10% . 对反应离子刻蚀制...
针对短波红外焦平面阵列探测器弱信号耦合、高帧频输出和噪声抑制的要求, 文中设计了512×256面阵探测器读出电路(ROIC)的高帧频模拟信号链路结构。完整的模拟信号链包含运放积分型(CTIA)单元输入级、相关双采样、电荷放大器和互补型输出级。在低温模型基础上,进行了前仿真和提取版图寄生参数的后仿真。仿真得到输出动态范围为2.8V,8路输出的工作帧频高于250Hz。基于CSMC-6S05DPTM0....
采用高温固相法成功合成了掺杂钼酸盐的ZnMoO4:Ce4+蓝色荧光材料。通过X 射线衍射(XRD)和荧光光谱等测试手段对所制备的材料的晶体结构和发光性能进行了表征。研究结果表明:实验按照理论化学计算比成功合成了ZnMoO4:Ce4+的蓝色荧光粉,该荧光粉为纯相的三斜结构;ZnMoO4:Ce4+在395 nm 处有强电子吸收,且在440 nm 处可发射高强度蓝光,其色坐标为(0.14,0.09);此...
用磁单负材料A 和电单负材料B 组成了(ABBA)N 型一维光子晶体,利用传输矩阵法计算表明:在4 500~7 500 nm 间出现了3 个塔姆态。这些塔姆态有如下特性:入射角增加,其透射率不变,但半峰全宽度变窄,位置发生蓝移;在同一入射角时,TM 波塔姆态的蓝移量大于TE 波的。两介质的几何厚度同时增加时,TE 波和TM 波塔姆态的透射率和半峰全宽度均保持不变,但其位置都发生了红移。A 介质的介...
介绍了一种自动获取数据库表结构并运用数据模型技术自动生成所需的程序代码的方法。该方法允许用户自定义代码模板,自动读取数据库表结构并生成项目中操作数据库的代码和页面代码,实现数据模型驱动的开发模式。通过这种方法能够完成项目中95%以上的数据库层代码设计,大大减少了程序员的编程工作量和项目完成周期。
使用有限元方法分析表面传导电子源阴极的形貌对其阴极和栅极附近电场分布及在金属电极、真空与发射薄膜交界处电子发射轨迹的影响。对不同阴极形貌下电子发射轨迹模拟结果表明,并非所有在金属电极、真空与发射薄膜三者交界处的电子都可以到达阳极板,阳极电压、阴极高度和外形都会影响发射电子的轨迹从而影响阴极电子的发射效率,模拟发现降低电极高度、增大阳极电压、使用大半径的弧形电极可以提高电子发射效率。
引入4种玻璃化温度不同的单体,通过可逆加成-断裂链转移和引发转移终止剂活性自由基聚合相结合的方法制备出不同主链柔性的活性接枝大分子引发剂MI,并用其制备了聚合物分散液晶膜,研究了MI的主链柔性对接枝聚合物为基体的PDLC电光性能的影响。研究发现,随着MI主链柔性增加,PDLC的关闭状态透光率、液晶微滴的粒径都是先减小后增大,并都在大分子引发剂为RAFT-P(BMA-co-CMSI)时有最小值;阈值...
为了获得高性能的涂层材料,采用激光熔覆的方法在45#钢基体上制备了MoFeCrTiWAlxSiy(x=0或1、y=0或1)高熵合金涂层,通过金相、XRD及硬度测试的手段重点探究了Al和Si两种元素对MoFeCrTiW高熵合金涂层组织与性能的影响。实验结果表明:Si的加入会促进金属间化合物大量的析出,细化晶粒效果明显,而且涂层的硬度显著提高,最高硬度可达839.3HV;Al的加入会抑制金属间化合物的...
We demonstrate experimentally signatures and dispersion control of surface plasmon polaritons from 1 to 1.8 μm using periodic multilayer metallo-dielectric hyperbolic metamaterials. The fabricated str...
A better understanding of optical loss in plasmonic and metamaterial systems is of increasing importance for both basic and applied research in a broad range of topics including sensors, antennas,opti...
Silicon has been driving the great success of semiconductor industry, and emerging forms of silicon have generated new opportunities in electronics, biotechnology, and energy applications.
Remarkable progress has been made over the past decade in controlling light propagation and absorption in compact devices using nanophotonic structures and metamaterials. From sensing and modulation,t...

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