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SnO（Sn）/泡沫镍整体催化剂的制备和催化活性
无机非金属材料 整体催化剂
2009/3/11
以泡沫镍为载体制备一系列活性组分为SnO和Sn的整体催化剂,测定了催化剂对邻苯二甲酸二(2-乙基己)酯(DOP)合成反应的催化活性,研究了电镀电流密度、电镀温度和焙烧处理对催化性能的影响,以及整体催化剂的寿命和失活的原因. 结果表明,所制备的SnO(Sn)/泡沫镍整体催化剂对DOP的合成有很好的催化活性和选择性.用整体催化剂Sn/Ni-3(300)催化DOP的合成反应,在1h的反应时间内邻苯二甲酸...
TiN纳米薄膜的高硬度及其产生机制
无机非金属材料 TiN纳米薄膜 超高硬度
2009/3/6
用脉冲直流多弧离子镀方法在W18Cr4V高速钢基体上沉积具有纳米结构的TiN薄膜,
用XP纳米压入仪测量薄膜的硬度, 研究了其硬度产生的机制. 结果表明,
厚度为2--3 μm、晶粒尺寸约为13--16 nm的TiN薄膜, 硬度为36--43 GPa,
远高于TiN的本征硬度(22--24 GPa). 高温去应力退火实验证实,
具有纳米结构的TiN薄膜的超高硬度不仅是由沉积过程中载能粒子轰...
表面活性剂对炭素泡沫结构与性能的影响
表面活性剂 炭素泡沫结构 性能
2009/3/6
以十二烷基苯磺酸钠(SDBS)和Span-40表面活性剂为添加剂, AR沥青为原料,制备炭素泡沫材料, 测定了材料的体积密度、显气孔率、压缩强度、常温热导率以及微晶结构参数,研究了添加表面活性剂后AR沥青的流变性能和炭素泡沫材料孔胞结构的变化. 结果表明,表面活性剂使炭素泡沫的平均孔径变小, 孔径分布趋于均匀,韧带的层片织构排列更为规整、致密. 添加SDBS的炭素泡沫, 孔壁较薄, 开孔率较高, ...
掺硼对超纳米金刚石薄膜的影响
无机非金属材料 掺硼 超纳米金刚石薄膜 化学气相沉积
2009/3/3
采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术, 利用氩气、甲烷、二氧化碳混合气体, 制备出平均晶粒尺寸在7.480 nm左右、表面粗糙度在15.72 nm左右的高质量的超纳米金刚石薄膜; 在此工艺基础上以硼烷作为掺杂气体, 合成掺硼的金刚石薄膜. 表征结果显示在一定的浓度范围内随着硼烷气体的通入, 金刚石薄膜的晶粒尺寸及表面粗糙度增大、结晶性变好, 不再具有超纳米金刚石膜的显微结构和表面形态; ...
衬底温度对钇稳定氧化锆薄膜择优生长的影响
无机非金属材料 YSZ薄膜 PLD沉积
2009/3/2
使用脉冲激光沉积(PLD)技术在Si(100)衬底上沉积钇稳定的氧化锆(YSZ)薄膜,
用XRD分析薄膜的结晶取向, SEM和AFM观测薄膜表面形貌,
研究了在200--650℃的不同衬底温度下薄膜的择优生长. 结果表明:
衬底温度较低的YSZ薄膜为非晶组织, 衬底温度为300--500℃时YSZ晶粒以表面能低的
(111)面首先择优生长, 衬底温度超过550℃后晶粒活化能提高而使表面能较...
单分散球形硫化镉膜的电化学沉积
无机非金属材料 硫化镉/球型 电沉积
2009/3/2
提出一种在ITO玻璃上电化学沉积制备单分散近球形硫化镉粒子的新方法.在S-CdCl_2-DMSO电沉积体系中加入少量的水制备出单分散膜层,调节沉积电流,电沉积时间或Cd~(2+)浓度可以改变膜层的粒子分布密度.结果表明,在电沉积的整个ITO玻璃表面上均分布有硫化镉沉积,且不同厚度膜层上的沉积其S与Cd的原子比不同.在电沉积硫化镉膜层上蒸镀铜酞菁制备出p-n异质结,其Ⅰ-Ⅴ特性表明,单分散近球形硫化...
负热膨胀ZrW_2O_8薄膜的制备和性能
无机非金属材料 钨酸锆 薄膜
2009/2/20
用交替射频磁控溅射法在石英基片上沉积并退火制备了ZrW_2O_8薄膜,测量了薄膜与基片之间的结合力和薄膜厚度,研究了薄膜的负热膨胀特性.结果表明:用磁控溅射方法制备的薄膜为非晶态,表面平滑、呈颗粒状,在1200℃热处理3 min后得到立方相ZrW_2O_8薄膜,结晶薄膜的颗粒长大,薄膜与基片之间有良好的结合力.立方相ZrW_2O_8薄膜在15-200℃热膨胀系数为-24.81×10~(-6)K~(...
高温绝热毡有效热导率的理论分析与实验研究
高温绝热毡 有效热导率 高真空平板型石墨
2009/2/19
建立了高温绝热毡有效热导率的数值计算模型,分析了温度和压力对传热机制的影响.用高真空平板型石墨加热炉测量了纤维绝热毡平均温度高达860℃时的有效热导率,实验结果与理论计算吻合得很好.结果表明,当温度较低(＜400℃)时,高温隔热毡的固体传导在总体传热中占主导地位;当温度较高时(＞700℃),无论环境压力高低,辐射都成为材料内部主导的传热方式;当环境压力小于200 Pa时,可忽略气体传导的影响.
溶胶凝胶法制备PMMA/SiO2杂化材料
溶胶凝胶 杂化材料 聚甲基丙烯酸甲酯
2009/2/12
针对目前PMMA/SiO2杂化材料制备过程中容易出现的相分离问题，采用原位聚合和同步溶胶凝胶过程制备了聚合物链段与无机组分间有化学键作用的PMMA/SiO2杂化材料，并应用透射电子显微镜、红外光谱分析仪、X射线衍射分析仪、热失重分析仪等对不同SiO2含量的PMMA/SiO2杂化材料的形貌及结构进行了研究。结果表明：SiO2含量在20%～60%间的PMMA/SiO2杂化体系没有明显的相分离现象，Si...
混晶结构纳米TiO2粉的光催化活性
无机非金属材料 TiO2 光催化
2009/2/12
以钛酸四丁酯为钛源制备混晶结构纳米TiO2粉,研究了纳米TiO2的光催化活性与颗粒晶相结构之间的关系.结果表明,当金红石相的质量分数少于18.53%,光催化活性随着金红石相的增多而降低;当金红石相的质量分数为18.53%～28.2%时,随着金红石相的增多,光催化活性逐渐增强,在28.2%附近具有最高的光催化活性,与纯锐钛矿结构纳米TiO2粉的光催化活性相当;金红石相含量继续增加,则光催化活性逐渐降...
溅射及RTA处理对ITO薄膜特性的影响
溅射 RTA处理 ITO薄膜
2009/2/11
采用RF-磁控溅射生长铟锡氧化物薄膜(ITO),研究了生长条件、快速热退火(RTA)温度对薄膜的晶化情况、透过率、电导率以及表面形貌的影响.结果表明:改变In2-x3+(Snx4+·e)O3制备过程中的氧含量使Sn4+·e对电子束缚能力发生变化,过高的氧分压使费米能级EF降低,功函数Ws增大,氧气流量为2 ml/min、退火温度为450℃时薄膜电阻率最低为2.5×10-4 Ω·cm,透过率达88%...
介孔SO42-/TiO2的一步法制备及其光催化性能
介孔 SO42-/TiO2 光催化
2009/2/11
通过对TiOSO4溶液热水解用一步法制备出大比表面积、高活性的介孔SO42-/TiO2光催化剂.用低温氮吸附-脱附等温线、XRD、Hammett指示剂、艾氏卡等方法对SO42-/TiO2催化剂进行了表征,以亚甲基蓝的光催化氧化降解反应考察了催化剂的光催化性能.结果表明,在焙烧过程中硫酸根和偏钛酸孔壁上的自由羟基键合,不仅有效地抑制了TiO2晶粒的长大和晶相转变,而且起到了孔结构形成的导向及支撑作用...
壳聚糖/羟基磷灰石引导组织再生膜材料的制备和性能
壳聚糖 羟基磷灰石 交替沉积
2009/2/11
用生物矿化交替沉积法成功在CS基质膜表面构建HA涂层,并进行了表征.结果表明,HA含量随着沉积循环数增加而增加,且在4个循环后基本达到饱和,饱和含量为8.8%;随着沉积循环数增加HA由均一颗粒状转变为无规则平板状;拉伸强度由纯CS膜的68.6 MPa降低到沉积5个循环后的46.9 MPa.控制沉积数可调控HA的含量、形貌和力学强度,以满足引导组织再生术需要.
离子轰击能量对ZrN/TiAlN纳米多层膜性能的影响
无机非金属材料 离子束辅助沉积(IBAD)
2009/2/11
使用超高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)制备一系列具有纳米调制周期的ZrN/TiAlN多层膜,研究了离子辅助轰击对薄膜性能的影响.结果表明:离子辅助轰击使大部分ZrN/TiAlN多层膜的纳米硬度和弹性模量值高于两种个体材料硬度的平均值;离子的轰击和薄膜表面原子与轰击离子之间的动量传输提高了薄膜的致密度;当轰击能量为200 eV时,多层膜的硬度最高(30.6 GPa),弹性模量、表面粗糙度和摩擦系...