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原子光刻制备铬原子纳米条纹的实验研究
原子光刻 原子沉积 纳米节距标准 激光准直
2013/9/11
原子光刻技术可以制备高重复性的铬原子纳米条纹光栅，这种光栅可以作为纳米节距标准，实现对高精度的扫描探针式显微镜、电子显微镜等高端仪器的校准。高真空腔体中的固态铬原子受高温喷发出气态原子束，运动的原子束在冷却激光场和激光驻波场的分别作用下，实现原子束的准直与汇聚，沉积在位于激光驻波场后面的InP基片上。经过3h的堆积，得到间距为212.78nm，高度为9nm 的铬原子纳米条纹光栅。针对条纹生长速率较...
Ag纳米颗粒对富Ag二氧化硅薄膜电致发光谱的影响
电致发光 Ag 纳米颗粒 局域表面等离激元
2010/9/7
利用磁控溅射和热退火在硅衬底上制备了Ag纳米颗粒镶嵌的氧化硅薄膜(SiO2∶Ag)，制作了电致发光结构ITO/SiO2∶Ag/p-Si，观测到了可见区的电致发光。发现薄膜中的Ag纳米颗粒不仅成倍地提高器件的发光强度，还明显地移动电致发光的峰位。Ag含量越高，颗粒越大，发光峰位越红移。氧化硅中的发光中心与纳米Ag 间的电磁相互作用，可用来定性解释这一实验结果。这种效应可把低效发光的材料转换为相对高效...
纳米计量与原子光刻技术分析
纳米计量 纳米传递 原子光刻
2008/7/31
为了说明原子光刻（Atom Lithography）在纳米计量及传递作用中的特殊地位，首先对纳米计量标准及其现状进行了简要介绍，提出纳米计量中原子光刻的基本概念和优势，结合原子光刻实验装置对原子光刻技术的工作机理进行了分析。结果表明，可以通过原子光刻技术得到纳米量级刻印条纹，为纳米计量及标准传递提供更加精确的手段。最后对常见的2种原子光刻技术——沉积型原子光刻和虚狭缝型原子光刻进行了阐述，指出2者...