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中国科学院高能物理研究所专利:一种相位片型纳米聚焦单元及其设计方法
柔性织物可穿戴电子电路系统是未来人体健康监测的重要基础平台,在疏松多毛、多孔洞、高弹性、易形变服装织物上,不以牺牲元器件的光电性能及面料的质轻、柔软、透气等特性为代价,集成高柔韧度、高机械可靠性的导线及光电学元器件仍是当前面临的行业共性技术难题。
近日,由印刷电子研究部崔铮研究员撰写的《微纳米加工技术及其应用》(第4版)由高等教育出版社出版。这是继崔铮研究员2005年撰写第1版以来该书的第三次再版。《微纳米加工技术及其应用》(第4版)全书67万字,全面介绍了微纳米加工各个技术门类的基础与最新进展,包括光学曝光技术,特别是集成电路芯片制造的光刻技术,例如浸没式曝光与深紫外(EUV)曝光技术;电子束曝光技术;聚焦离子束加工技术;扫描探针加工技术...
考虑用CaF2材料制作投影光刻物镜可以明显提高其性能指标,本文研究了CaF2材料加工工艺的全流程,以实现CaF2材料的全频段高精度加工。首先,利用沥青抛光膜和金刚石微粉使CaF2元件有较好的面形和表面质量。然后,优化转速、抛光盘移动范围、压力等加工工艺参数,并使用硅溶胶溶液抛光进一步降低CaF2元件的高频误差,逐渐去除加工中产生的划痕并且获得极小中频误差(Zernike残差)和高频粗糙度。最后,在...
20世纪90年代,国内光学零件制造水平不高,大多采用“手工+机械抛光”的传统加工技术,对于大口径、高精度、复杂面形的光学零件我国制造能力有限,许多相关领域的技术进步常常要受困于此。新世纪之初,正在做访问学者的国防科大精密工程创新团队李圣怡教授了解到,国外一所大学已在研发磁流变加工设备,回校后他便带领团队进行潜心研究,终于弄清了磁流变加工技术原理,论证了该技术在光学加工上的优势。于是,他们决定跳过一...
采用甚高频增强型等离子体化学气相沉积技术,通过优化薄膜的沉积条件制备出高性能的PncSi∶H薄膜材料(σ=5.86 S/cm、Eopt>2.0 eV).通过XRD测量计算出薄膜<111>、<220>和<311>三个晶向上的晶粒大小分别为15 nm、17 nm和21 nm;通过Raman测量,计算出其晶化率为35%左右.实验中,将P型纳米硅薄膜与氧化铟锡一起构成有机电致发光器件的复合阳极,研究了...

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