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氧碘化学激光器研究取得突破性进展
2008/1/17
9月17日，大连化物所承担的“863-802”子课题《低温真空吸附技术研究》取得重大进展。该子课题采用低温真空吸附系统作为氧碘化学激光器的压力恢复系统，与氧碘化学激光器对接进行出光实验，一次获得成功。低温真空吸附系统的研究成功，标志着氧碘化学激光器研究上的重大突破。从高能氧发生器到最后压力恢复系统的研制组成了完整氧碘化学激光系统，是氧碘化学激光器向实用化迈进的重要一步，将对氧碘化学激光器系统研制有...
英特尔研发出全球首个混合硅激光器
英特尔 混合硅激光器 硅工艺制造
2006/9/19
2006年9月18日，来自英特尔公司和美国加州大学圣芭芭拉分校（UCSB）的研究人员成功研发了世界上首个采用标准硅工艺制造的电力混合硅激光器（Hybrid Silicon Laser）。这项技术突破标志着用于未来计算机和数据中心的低成本、高带宽硅光子学设备产业化的最后障碍之一已经被解决。