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光电子学与激光技术
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搜索结果:
1-1
共查到
“
光电子学与激光技术 飞秒激光烧蚀
”
相关记录1条 . 查询时间(0.104 秒)
266 nm
飞秒激光烧蚀
单晶硅的分子动力学模拟
飞秒激光
单晶硅
SW势
分子动力学
2009/8/25
基于Stillinger-Weber(SW)势和“x-分区”模型,用分子动力学方法模拟了266 nm
飞秒激光烧蚀
单晶硅的过程,给出了
烧蚀
过程的物理图像,
烧蚀
过程中材料内部缺陷的产生与发展最终导致整层材料被移除。对比研究了
烧蚀
材料中不同区域粒子的运动轨迹,结果体现了在固、液、气不同状态下粒子的运动特征。模拟了
激光
诱导应力波的传播,其速度为8.18 km/s。
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