搜索结果: 1-10 共查到“Al2O3膜”相关记录10条 . 查询时间(0.203 秒)
中国科学院金属研究所专利：一种热生长Cr2O3或Al2O3膜型M-Cr-Al纳米复合镀层及制备方法和应用
中国科学院金属研究所 专利 热生长 Cr2O3 Al2O3膜型 M-Cr-Al纳米复合镀层
2023/11/14
中国科学院金属研究所专利：一种热生长Cr2O3或Al2O3膜型M-Cr-Al纳米复合镀层及制备方法和应用
阻氚用Fe-Al渗铝层表面稳态相Al2O3膜生长机理研究
阻氚涂层 Al2O3膜 α-Al2O3 稳态相
2020/12/20
为阐释Fe-Al渗铝层表面暂态相Al2O3膜向稳态相α-Al2O3膜的转变机理，探索稳态相α-Al2O3膜制备的氧化工艺参数范围，采用掠入射角X射线衍射仪、辉光放电光谱仪、聚焦离子束、透射电镜等，结合热重分析对CLAM钢基体Fe-Al渗铝层在940～980 ℃、1 Pa～20 kPa参数下的氧化生长行为进行了深入表征与机理分析。研究结果表明，在1 Pa～20 kPa氧分压范围内Al2O3膜生长初期...
溅射NiCrAlY涂层氧化过程Al2O3膜结构与形貌的转变
溅射NiCrAlY涂层 高温氧化
2009/9/15
对溅射NiCrAlY涂层进行了900℃，1000℃，1100℃空 气中高温氧化。实验表明，氧化初期生成快速长大的亚稳态θ-Al2O3相，随着氧化时间 延长，θ-Al2O3逐渐转变成α-Al2O3，氧化动力学抛物线常数kp也随之下降 。θ→α-Al2O3相变速度与温度有关，温度越高，相变越快。对涂层进行真空热处理可 促进θ→α-Al2O3转变，使涂层表面快速形成保护性能优异的α-Al2O3。
表面涂覆CeO2对Fe—23Cr—5Al合金上Al2O3膜生长应力的影响
应力 氧化膜 稀土效应
2009/9/11
研究了表面涂覆ＣｅＯ２对Ｆｅ－２３Ｃｒ－５Ａｌ合金９００℃和１０００℃下形成的Ａｌ２Ｏ３膜生长应力的影响。涂覆ＣｅＯ２增大了合金的氧化速率，促进了Ａｌ２Ｏ３膜的起皱同时也增大了Ａｌ２Ｏ３膜的生长应力。涂覆ＣｅＯ２表面形成的起皱的Ａｌ２Ｏ３膜在冷却过程中剥落量较少；而在真空保温过程中应力不容易释放。认为表面涂覆ＣｅＯ２对Ｆｅ－２３Ｃｒ－５Ａｌ的抗氧化并不能起到改善作用。
采用一种测定氧化膜生长应力的双面氧化弯曲方法，测量了Fe-23Cr-5Al(Fe-22.6Cr-4.42Al-0.21Ti,wt%)合金在1000℃空气中氧化形成的Al2O3膜的平均生长应力，研究了氧化膜应力释放机制。Al2O3膜的平均生长应力随膜厚增大而减小，其大小从-1GPa数量级变化到-100MPa数量级。基体合金和Al2O3膜在1000℃时均发生蠕变。合金氧化一定时间后于真空保温退火，发现...
防离子反馈Al2O3膜对三代夜视成像器件性能的影响
微光夜视成像器件 MCP 器件寿命
2008/9/17
为解决三代微光管寿命问题，采用电子显微镜和质谱仪对微通道板输入面溅射蒸镀的Al2O3膜质量进行了分析，研究了膜层对器件性能的影响，并就Al2O3给三代微光夜视成像器件带来的成像质量问题进行了讨论。研究结果表明：尽管Al2O3薄膜可以有效地防止离子反馈，但给管子成像质量带来了严重影响，使得图像模糊，信噪比降低等。提出了从本质上解决器件寿命问题的有效措施是将光电阴极与显示屏进行真空隔离，以实现光电阴极...
用光激发荧光谱术分析测量磁控溅射Co-Cr-Al(Y)纳米涂层经1000, 1100和1200℃氧化后Al2O3膜中的残余应力, 获得如下结果: (1) 残余应力随氧化温度升高而增大; (2) 暂态氧化出现的区域应力值明显低于无暂态氧化的区域; (3) 两种涂层1000℃下形成的氧化膜中的残余应力相差不大, 但在1100℃和1200℃下, 含Y涂层形成的氧化膜中的残余应力比不含Y中的高. 对实验结...
文章摘要：
提出了一种测定氧化膜生长应力的双面氧化弯曲方法, 经不象常规弯曲法那样为防止试样一个侧在发生氧化度制保护除层, 因而可用于较高温度及较长时间的氧化情况并可测定Ａｌ２Ｏ３膜的生长应力, 由于高温下合金及薄氧化膜发生蠕变, 从而释放膜内应力. 新方法应用于合金的蠕变数据, 并采用数值计算来获得氧化膜应力值.
纳米Al/Al2O3复合材料中Al2O3膜的碎化对性能的影响
Al2O3膜 Al/Al2O3复合材料 微观组织
纳米
2007/10/26
文章摘要：
观察了在不同温度下退火的Al/Al2O3复合材料的微观组织，结果表明，当退火温度达到570℃时包裹着Al核的非晶Al2O3壳开始破碎. 研究了非晶Al2O3膜的破碎机理并在此基础上讨论了材料的微观结构与力学性能和内耗的关系，发现氧化膜的状态对材料的力学性能和内耗特征具有决定性的影响.