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为了提高TiB2涂层的致密性，采用磁控溅射技术，通过改变基片偏压，获得了floating，-30V，-90V三种偏压状态的涂层。利用XRD，SEM、纳米压痕仪、Vickers显微硬度仪和摩擦磨损试验机对涂层的结构和性能进行了分析。结果表明：所有制备涂层只存在六方结构TiB2相，偏压为floating状态时制备的涂层表现出疏松的柱状生长结构，硬度为15GPa。随偏压增大，涂层柱状结构变致密甚至消失，...
