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电沉积制备WO3电极及其对Cu可见光光电化学保护
WO3 电沉积 可见光
2008/12/9
为利用可见光能实现对金属材料的光电化学防腐蚀，采用阴极电沉积法制备了具有可见光光电响应的WO3薄膜电极。考察了其制备工艺条件和光反应体系组成对电极光电响应性能的影响。结果表明：沉积电位-0.45 V （相对于饱和甘汞电极），沉积时间1600 s，烧结温度400 ˚C时电极光电性能较好；在光电化学电池中，阳极室添加空穴捕获剂如甲酸和升高溶液pH，有利于光电流输出。在阳极室溶液组成为0.5 ...
Na2WO4-WO3-ZnO体系熔盐镀钨
Na2WO4-WO3-ZnO熔盐 电镀 钨镀层
2000/3/2
对Na2WO4WO3ZnO体系熔盐镀钨工艺进行了详细研究， 得到了获得金属钨镀层的工艺条件。结果表明： 在空气气氛中， 当氧化钨的浓度为15%～30%时，于850～950 ℃能得到金属钨镀层且镀层表面平整；当其它条件都相同时， 在铜基体上获得钨镀层比钼基体上所需的温度略高一些； 扫描电镜照片显示钨镀层与钼基体之间有明显分界面， 元素线扫描结果证实镀层与钼基体间扩散层厚度仅为2.5 μm， 基...