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近日,中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室在计算光刻技术研究方面取得进展,提出了一种基于协方差矩阵自适应进化策略(Covariance matrix adaptation evolution strategy, CMA-ES)与新型光源表征方法的光源掩模优化技术(Source mask optimization, SMO)。仿真结果表明该技术的优化性能与收敛效率优于国际同类技术...