搜索结果: 1-15 共查到“光学工程 SiO2”相关记录23条 . 查询时间(0.089 秒)
在光学薄膜领域中，SiO2具有低吸收系数、耐腐蚀性、硬度高等特性，是制备高性能光学薄膜的首选低折射率材料。在光学薄膜制备过程中，不仅需要满足超低吸收和散射损耗，还需要控制镀膜后残余应力的大小。过大的残余应力会造成光学元件基底和镀膜表面变形以及折射率各向异性，甚至激光损伤，使入射到薄膜上的反射光波前产生很大的畸变，偏离光学系统路径而无法正常工作。然而，一定大小的残余应力还可以提高薄膜的硬度以及对基底...
石墨烯透明电极在光照下可能会产生电学性能变化，对于LED背光源，蓝光成分比重较大。为了研究石墨烯在蓝光辐照下的电学性能，以不同基底的石墨烯电极为样品，包括分别代表柔性和硬质应用的PET和SiO2基石墨烯，介绍了这两种基底的石墨烯透明电极在不同功率蓝光辐照下，在不同环境气氛中的导电性能变化，并分析了掺杂对石墨烯导电稳定性的影响。实验结果表明：不同基底石墨烯样品的导电性能在蓝光辐照下均会发生变化，其变...
制备了SiO2@Fe3O4@C核壳结构颗粒,粒径可控,形貌均一.研究了在电场调控下,不同粒径,不同浓度的SiO2@Fe3O4@C纳米颗粒悬浮液在不同溶剂下的光学性质,结果表明:150 nm SiO2@Fe3O4@C颗粒在质量分数10%浓度下得到的反射光谱可调节范围最宽,从735 nm蓝移到540 nm;随着颗粒悬浮液浓度的增加,反射光谱会整体蓝移.将粒径为150 nm的粒子分散到不同的溶剂中,其电...
采用磁控溅射法在Si衬底上制备了SiO2介质膜,系统地研究了SiO2膜引入对Ag纳米颗粒的表面覆盖率、形貌、形成机理和光学性质的影响.研究发现引入SiO2介质膜后,Ag纳米颗粒的表面覆盖率显著增加,平均粒径明显降低.基于现有的Ag纳米颗粒形成机理,提出了粗糙表面Ag膜断裂模型以解释其形貌发生变化的原因.紫外-可见光分光光度计测试表明,引入SiO2膜并优化其厚度,可使Ag纳米颗粒的偶极消光峰最大红移...
对Si-SiO2基底薄膜系统进行数值实验,将SiO2薄膜的能损函数与透过率光谱和反射椭圆偏振光谱进行对比,讨论了在红外透过率光谱和反射椭偏光谱中激发的SiO2薄膜TO和LO振动模式.在正入射的红外透过率光谱中,仅能发现SiO2薄膜的TO振动模式;在倾斜入射的s偏振透过率光谱中没有激发的LO模式;在倾斜入射的p偏振透过率光谱中,当入射角小于60°时,三个TO振动模式全部被激发;当入射角大于60°时,...
采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为550 ℃时,折射率达到最小。经过热处理后,SiO2薄膜的弱吸收均得到了降低,在2 ppm(1 ppm=10-6)左右,当热处理温度为550 ℃时,获得的SiO2薄膜弱...
毫米波在SiO2基底材料中的传播特性
红外/毫米波 物理厚度 厚度偏差
2013/8/10
红外/毫米波分频器件是红外/毫米波复合探测系统的关键器件之一。利用电磁波干涉理论计算和分析了介质材料特征参数对毫米波透射、反射和吸收性能的影响。针对工作频率为35GHz的电磁波，给出了介质材料厚度设计的准则，分析了SiO2材料不同物理厚度和物理厚度偏差对毫米波传输性能的影响。分析结果表明：基底物理厚度越大，基底物理厚度偏差对毫米波透射、反射和吸收性能的影响就越大，要求也越精确。对红外/毫米波分频器...
脉冲激光诱导TiO2/SiO2薄膜表面损伤性能实验
激光诱导 损伤阈值 激光能量阶
2013/6/17
高功率的激光系统对光学元件的抗激光损伤性能的要求不断提高。主要研究薄膜在脉冲激光诱导作用下的损伤特性及其机理，实验采用YAG脉冲激光器对TiO2/SiO2薄膜样片进行1-on-1方式的激光诱导。实验结果表明：采用低能量激光诱导对薄膜的光学透过率影响不大。经低能量激光诱导后，薄膜的表面结构缺陷得以修复，表面结构趋于完整，变得均匀和细腻。脉冲激光诱导TiO2/SiO2薄膜样片，激光能量阶较小时，其损伤...
Ａｕ＠ＳｉＯ２纳米核壳结构的制备及光学性质研究
Ａｕ＠ＳｉＯ２ 核壳结构 表面增强拉曼光谱 腐蚀法
2012/12/7
采用一种新方法制备了Ａｕ＠ＳｉＯ２ 核壳结构的纳米颗粒，利用透射电镜和紫外可见吸收光谱对产物的形貌和稳定性进行了表征。以对巯基苯甲酸（ＰＭＢＡ）作为探针分子，分析了Ａｕ＠ＳｉＯ２ 颗粒的ＳＥＲＳ特性，结果表明Ａｕ＠ＳｉＯ２／ＰＭＢＡ具有稳定的ＳＥＲＳ信号；通过控制ＳｉＯ２ 前驱体（ＴＥＯＳ）的使用量，成功实现了对ＳｉＯ２ 层厚度的调节；研究了Ａｕ＠ＳｉＯ２ 颗粒在碱性溶液中的稳定性，结果显示在ｐ...
采用离子束溅射沉积技术，在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜，研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大，低温热处理可降低表面粗糙度，高温热处理则增大表面粗糙度，选择合适的热处理温度，可以使表面粗糙度几乎不变。采用X射线衍射仪（XRD）物相分析方法，分析了热处理对离子束溅射SiO2薄膜的无定形结构特性的影响，当退火温度为550 ℃，离子束溅射SiO2薄膜的短程...
用Sol-Gel法合成了SiO2包覆SiO2∶Tb3+的纳米核壳颗粒(用SiO2∶Tb3+@SiO2表示)，并研究了核壳配比和制备工艺对其发光性能的影响。TEM和EDS表明SiO2溶液成功包覆于SiO2∶Tb3+表面；通过测试荧光性能,发现制备工艺为壳层先陈化再放入核、核壳配比为1.2 g∶25 mL时，SiO2∶Tb3+@SiO2较未包覆SiO2∶Tb3+样品PL光谱强度增强，通过测试核壳结构材...
以纳米二氧化硅(Nano-SiO2)为原料，硅烷偶联剂(KH-550)作为交联剂首先合成了氨丙基纳米二氧化硅(Nano-APSG)，然后加入有机功能试剂季磷盐(COOH-Ph-CH2-P(C6H5)3Br)通过有机合成反应合成有机功能试剂改性纳米二氧化硅材料(Si|(CH2)3-NH-CO-Ph-CH2-P(C6H5)3Br)，利用红外、粒径、热重分析等对结构进行了表征。通过火焰原子吸收光谱法研究...
为了提高稀土有机配合物的转光能力和紫外稳定性，以Ｓｍ（Ⅲ）为中心稀土离子，Ｔｂ为敏化离子，β二酮类有机配体α噻吩甲酰三氟丙酮（ＨＴＴＡ）及第二配体１，１０菲咯啉（ｐｈｅｎ）等作为主要配体，采用化学沉淀法合成了具有紫外转红光性能的转光剂Ｓｍ１－狓Ｔｂ狓（ＴＴＡ）３ｐｈｅｎ，并利用ＳｉＯ２ 对配合物进行了表面改性．借助红外光谱、紫外可见光吸收光谱及荧光光谱对配合物Ｓｍ１－狓Ｔｂ狓（ＴＴＡ）３ｐｈ...
采用sol-gel法制备了稀土Tb3+掺杂的SiO2发光干凝胶，对样品微观结构和发光性能进行了表征，研究了含水量对样品荧光强弱，磷光特性，发光衰减等的影响。结果表明：当溶液中正硅酸乙酯、无水乙醇、蒸馏水配比为1∶4∶4时，650 ℃退火样品的发光最强，当配比为1∶4∶5时，750 ℃退火样品的发光最强，当配比为1∶4∶6时，850 ℃退火样品的发光最强。随着含水量的增加，经750 ℃退火处理的样品...
多脉冲532nm激光作用下HfO2/SiO2高反膜的损伤发展
HfO2/SiO2 高反膜 损伤阈值 多脉冲
2009/9/17
利用电子束蒸发沉积技术在K9 玻璃基片上制备了中心波长为532nm的HfO2/SiO2 高反膜，
研究了1-on-1 模式下的损伤行为，并根据ISO11254-1.2 标准确定了该薄膜的激光损伤阈值；研究了
该薄膜在多脉冲532nm 激光作用下的损伤发展过程. 损伤形貌和损伤深度的研究表明, 多脉冲激光
作用下的损伤行为本质上和1-on-1 模式是相同的，都是缺陷诱导激光损伤；同时，存在一个...