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中国科学院金属研究所专利:一种低温制备大块致密高纯单相Y2SiO5陶瓷快体材料的方法
中国科学院金属研究所专利:一种超高孔隙率和低坯体收缩率Y2SiO5多孔陶瓷的制备方法。

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