搜索结果: 1-10 共查到“材料合成与加工工艺 SiO2”相关记录10条 . 查询时间(0.111 秒)
SiO2纳米粒子增强改性聚乙烯力学性能的研究
纳米二氧化硅 聚乙烯改性 力学性能 熔融共混
2009/9/27
以不同比例的SiO2纳米粒子与mLLDPE/LDPE基材进行熔融共混所获得的复合材料为研究对象,力学性能测试和SEM、TEM观察照片研究结果表明:当使用经处理的2% SiO2纳米粒子时,其复合材料力学性能达到最佳值; 与纯mLLDPE/LDPE相比,拉伸强度、断裂伸长率分别提升了13.7 MPa和174.9%,表明了SiO2无机纳米粒子被分散于基材中,与基材形成牢固的界面结合,与基体树脂之间的链段...
介孔SiO2纳米棒的制备及其表面锚接金纳米粒子
硅烷化 金纳米粒子 多轮生长
2009/8/21
以正硅酸乙酯为硅源，十六烷基三甲基溴化铵为模板剂，聚乙二醇为分散剂，采用溶胶-凝胶法制备出SiO2纳米粒子，应用透射电镜、扫描电镜、X射线衍射仪、红外光谱仪和X射线能谱仪研究了粒子的性能。结果表明：所得产物是具有周期性规则介孔的棒状粒子，长径比随着硅源、模板剂和分散剂浓度的降低而减小；向反应体系中引入乙醇，随着乙醇与水的体积比例的增加，粒子由棒状向球状转变，进而形成不规则絮状凝聚体。用硅烷化技术对...
溶胶-凝胶法制备TiO2-SiO2多层增透膜
溶胶-凝胶法 增透膜 膜系设计
2009/8/13
在酸催化体系中以钛酸丁酯为前驱体制得TiO2溶胶，以正硅酸乙酯（TEOS）为前驱体制得SiO2溶胶，采用提拉法在普通载玻片上镀膜。辅助MASS膜系设计软件进行模拟计算，得到了透射率为99%的膜片。根据理论模拟结果，实验采用交叉镀膜，制备出了宽带增透TiO2-SiO2多层膜，其方法有别于以往的TiO2/SiO2复合膜法。用紫外-可见分光光度计测量了样品的透射光谱。实验发现,样品具有明显的宽带增透效果...
采用传统熔体冷却技术制得了新型SrO-ZnO-B2O3-SiO2-M2O3(M=Y, La, Gd)发光玻璃。对玻璃密度、紫外?可见光区的透过性能以及荧光发射进行了检测。结果表明：SrO-ZnO-B2O3-SiO2(SZBS)玻璃在可见光区具有高透过性能，稀土氧化物的引入增强了玻璃在可见光区的透过率。SZBS玻璃的激发主峰位于221 nm附近，发射光谱则是峰值位于410、475和502 nm附近的...
有机溶剂纳米SiO2溶胶的制备和性能
有机溶剂纳米 SiO2溶胶
2009/1/15
提出了一种经济、简便、实用的制备沸点高于100℃的有机溶剂SiO2溶胶的方法,可制备出无色、澄清、透明、浓度为5%～10%的有机硅溶胶,在pH值6～9范围内稳定.使用H3CSi(OCH3)3作为封端剂可阻止SiO2溶胶凝胶化,其作用机制在于:通过封端剂分子水解出的活性羟基,与SiO2粒子表面活性基团反应,阻断溶胶粒子的生长,使溶胶稳定性提高.以这种有机溶剂纳米SiO2溶胶作为铝电解电容器工作电解液...
工艺条件对Zn-Fe-SiO2合金复合镀层成分的影响
2007/12/25
采用电沉积的方法,制备了Zn-Fe-SiO2复合镀层,并研究了工艺条件对镀层成分的影响.结果表明,镀液pH值对镀层成分的影响最大,pH值的上升可以导致镀层铁含量下降,但有利于提高SiO2含量;电流密度对镀层成分的影响也很大,铁含量在电流密度为6.0A/dm2时最高;温度对镀层铁含量的影响比较小,而且没有规律性.
Ni-SiO2复合镀工艺研究
2007/12/25
研究了Watts型镀镍液中SiO2微粒在镀层中的含量与阴极电流密度的关系,以及镀液的pH值、搅拌速度、电流密度、微粒悬浮量、添加剂等工艺条件和参数对Ni-SiO2复合镀层的影响,确定了其最佳镀液组成和工艺参数;SEM能量色散检测表明,制备的镀层中SiO2质量含量在10%～20%.镀层的外观均匀、细致,并有金属光泽.
混合表面活性剂法制备介孔SiO2微球及其Semi-batch法生长
2007/12/12
摘要 以TEOS为原料, 以表面活性剂CTAB与十二胺的混合物为模板剂, 以C2H5OH、C3H7OH和H2O为共溶剂, 在弱碱性条件下制备出单分散SiO2介孔微球. 通过调变模板剂用量以及共溶剂的比例, 所得微球粒径在0.2～1.5μm范围内可调节. 并采用semi-batch(半间歇加料)方法进一步生长微球, 使其粒径增大到3μm. 此类微球具有3nm的平均孔径和较高的比表面积, 有望作为高...
Pt/介孔TiO2-SiO2的制备、表征及光催化性能研究
2007/12/12
摘要 以正硅酸乙酯、钛酸异丙酯为前驱体, 尿素为沉淀剂, 改进的均匀沉淀法制备了TiO2-SiO2介孔复合材料, 用XRD、FTIR、氮气吸附-脱附、XPS等对材料进行了表征. 结果表明: Ti/Si摩尔比为0.5的介孔复合材料平均孔径为3.2nm, 比表面积达到609m2/g. 用光还原法在材料表面沉积适量的贵金属Pt, 大大提高了材料的光催化活性.
制备工艺对InP/SiO2纳米膜性能的影响
InP/SiO2纳米复合膜 化学组分 微观结构
2007/10/26
文章摘要：
应用射频磁控共溅射方法，分别在InP薄片与磁控靶底座紧接触（方法1）和InP薄片放在石英靶表面（方法2）两种情况下制备了InP/SiO2复合薄膜，并分别在高纯H2中和在P气氛中对薄膜进行了热处理。X 射线光电子能谱表明，对于用方法1制备的复合膜，其SiO2中的氧缺位、P 和In 的氧化物的含量都比用方法2 的少得多。X射线和卢瑟福背散射实验结果表...