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搜索结果: 1-7 共查到材料科学 Al2O3膜相关记录7条 . 查询时间(0.14 秒)
中国科学院金属研究所专利:一种热生长Cr2O3Al2O3膜型M-Cr-Al纳米复合镀层及制备方法和应用
对溅射NiCrAlY涂层进行了900℃,1000℃,1100℃空 气中高温氧化。实验表明,氧化初期生成快速长大的亚稳态θ-Al2O3相,随着氧化时间 延长,θ-Al2O3逐渐转变成α-Al2O3,氧化动力学抛物线常数kp也随之下降 。θ→α-Al2O3相变速度与温度有关,温度越高,相变越快。对涂层进行真空热处理可 促进θ→α-Al2O3转变,使涂层表面快速形成保护性能优异的α-Al2O3。
研究了表面涂覆CeO2对Fe-23Cr-5Al合金900℃和1000℃下形成的Al2O3膜生长应力的影响。涂覆CeO2增大了合金的氧化速率,促进了Al2O3膜的起皱同时也增大了Al2O3膜的生长应力。涂覆CeO2表面形成的起皱的Al2O3膜在冷却过程中剥落量较少;而在真空保温过程中应力不容易释放。认为表面涂覆CeO2对Fe-23Cr-5Al的抗氧化并不能起到改善作用。
采用一种测定氧化膜生长应力的双面氧化弯曲方法,测量了Fe-23Cr-5Al(Fe-22.6Cr-4.42Al-0.21Ti,wt%)合金在1000℃空气中氧化形成的Al2O3膜的平均生长应力,研究了氧化膜应力释放机制。Al2O3膜的平均生长应力随膜厚增大而减小,其大小从-1GPa数量级变化到-100MPa数量级。基体合金和Al2O3膜在1000℃时均发生蠕变。合金氧化一定时间后于真空保温退火,发现...
用光激发荧光谱术分析测量磁控溅射Co-Cr-Al(Y)纳米涂层经1000, 1100和1200℃氧化后Al2O3膜中的残余应力, 获得如下结果: (1) 残余应力随氧化温度升高而增大; (2) 暂态氧化出现的区域应力值明显低于无暂态氧化的区域; (3) 两种涂层1000℃下形成的氧化膜中的残余应力相差不大, 但在1100℃和1200℃下, 含Y涂层形成的氧化膜中的残余应力比不含Y中的高. 对实验结...
文章摘要: 提出了一种测定氧化膜生长应力的双面氧化弯曲方法, 经不象常规弯曲法那样为防止试样一个侧在发生氧化度制保护除层, 因而可用于较高温度及较长时间的氧化情况并可测定Al2O3膜的生长应力, 由于高温下合金及薄氧化膜发生蠕变, 从而释放膜内应力. 新方法应用于合金的蠕变数据, 并采用数值计算来获得氧化膜应力值.
文章摘要: 观察了在不同温度下退火的Al/Al2O3复合材料的微观组织,结果表明,当退火温度达到570℃时包裹着Al核的非晶Al2O3壳开始破碎. 研究了非晶Al2O3膜的破碎机理并在此基础上讨论了材料的微观结构与力学性能和内耗的关系,发现氧化膜的状态对材料的力学性能和内耗特征具有决定性的影响.

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